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效果圖描述：1、磁控濺射的原理是基于陰極輝光放電理論，把陰極表面磁場(chǎng)擴(kuò)展到接近工作表面，提高了濺射原子離化率。既保留磁控濺射的細(xì)膩又增強(qiáng)了表面光澤度。2、電弧等離子體蒸發(fā)源性能可靠，在優(yōu)化陰極及磁場(chǎng)結(jié)構(gòu)鍍膜時(shí)可在30A電流下工作，鍍膜膜層和基底界面產(chǎn)生...... [詳情] 更多關(guān)于真空鍍膜機(jī)圖片相關(guān)信息 標(biāo)簽：真空鍍膜機(jī)圖片   真空鍍膜機(jī)樣板圖  

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