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相對(duì)濕度越高,粘附的難去掉,但當(dāng)相對(duì)濕度低于30%時(shí),又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面,同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對(duì)于硅片生產(chǎn)溫度范圍為35—45%。潔凈室中的溫濕度控制。潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來(lái)確定,但在滿足工藝要求的條件下,應(yīng)考慮到 人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高,出現(xiàn)了工藝對(duì)溫濕度的要求也越來(lái)越嚴(yán)的趨勢(shì)。要說(shuō)凈化工程在發(fā)展的前景方面,形勢(shì)還是非常好的,市場(chǎng)需求更是一片大好。因?yàn)槲覀儑?guó)家的制藥、電子信息等行業(yè)都在迅速發(fā)展,車(chē)間凈化工程,所以對(duì)凈化工程行業(yè)的發(fā)展起到了帶動(dòng)的作用。在這里需要提醒大家的是自從我們國(guó)家的方面的改革條文GMP-2010發(fā)布之后,既推動(dòng)了生物和食品化工行業(yè)的發(fā)展,也間接的推動(dòng)了凈化工程行業(yè)的發(fā)展。而且相關(guān)方面的政策支持也讓凈化工程行業(yè)的發(fā)展機(jī)遇推到了。

10級(jí):主要用于帶寬小于2微米的半導(dǎo)體工業(yè)。其空氣凈化要求僅次于1級(jí),并且我國(guó)半導(dǎo)體技術(shù)也在發(fā)展之中,在未來(lái)對(duì)潔凈度的要求更加高。1000級(jí) 一般只對(duì)塵埃濃度做要求,用于光學(xué)器件,儀器等高精儀器等10000級(jí),用于液壓設(shè)備的生產(chǎn),和一些食品飲料的生產(chǎn)。100000級(jí),這個(gè)級(jí)別比較的低,對(duì)凈化度要求不是很高,主要在印刷廠,包裝廠等。具體工藝對(duì)溫度的要求以后還要列舉,但作為總的原則看,由于加工精度越來(lái)越精細(xì),所以對(duì)溫度波動(dòng)范圍的要求越來(lái)越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中,作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來(lái)越小。

100級(jí):是常用的凈化工程,電子廠凈化工程,除了對(duì)空氣中的塵埃數(shù)有要求,對(duì)空氣中的濃度也有明確要求。一般用于行業(yè)進(jìn)行無(wú)菌制造,例如制造臨床用于植入體內(nèi)的物品,安徽凈化工程,藥品生產(chǎn)。醫(yī)學(xué)科學(xué)實(shí)驗(yàn)也在此環(huán)境中,包括實(shí)驗(yàn)動(dòng)物飼養(yǎng)環(huán)境。凈化工程的一般施工程序:粉塵作業(yè),無(wú)塵作業(yè)后,不允許交叉作業(yè)。 否則會(huì)影響項(xiàng)目的質(zhì)量。 也就是說(shuō),電子凈化工程,在完成所有粉塵產(chǎn)生操作之后,可以進(jìn)行無(wú)塵操作。現(xiàn)在我們國(guó)家的凈化工程已經(jīng)在朝著節(jié)能的方向發(fā)展了,其他人很少知道凈化工程的耗能量特別大,時(shí)候普通寫(xiě)字樓的20倍,比美國(guó)更發(fā)達(dá)國(guó)家高出了15%??吹竭@些令人心驚的數(shù)字,我們國(guó)家的科學(xué)家們從節(jié)能的角度出發(fā)從根本上出出發(fā),設(shè)計(jì)出能夠節(jié)省的相關(guān)設(shè)備。


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