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曝光顯影工藝就是指利用物質(zhì)這一特點(diǎn),由高精度紫外平行光源通過(guò)掩膜版對(duì)涂有特定吸收波長(zhǎng)的油墨進(jìn)行紫外光照射,然后通過(guò)化學(xué)去除多余涂層,手機(jī)殼LOGO曝光顯影加工,從而達(dá)到圖形轉(zhuǎn)印的過(guò)程稱之為曝光顯影工藝。
曝光顯影技術(shù)優(yōu)勢(shì):
1、解決3D曲面玻璃(包含四面曲)印刷難題;
2、圖形轉(zhuǎn)印技術(shù)單層、多層套印精度高;
3、霧化噴涂確保厚度均一性,大嶺山手機(jī)殼LOGO曝光顯影,提高致密性,降低油墨厚度;
4、采用圖形轉(zhuǎn)印技術(shù),手機(jī)殼LOGO曝光顯影拋光,良率較高;
5、4-6寸蓋板單制程產(chǎn)能優(yōu)勢(shì)明顯;
6、較薄的油墨利于貼合,提高制程整體良率。
蝕刻速度決定了蝕刻加工周期的長(zhǎng)短,蝕刻速度越快,蝕刻加工周期越短,生產(chǎn)效率越高,反之生產(chǎn)效率較低。但是,蝕刻速度也并非越快越好:
對(duì)于整體蝕刻或成型的化學(xué)蝕刻加工及鏤空?qǐng)D文的蝕刻往往都是兩個(gè)面同時(shí)進(jìn)行。這種雙面蝕刻加工的速度比只在一個(gè)面進(jìn)行的蝕刻加工的速度快1倍,在金屬材料一定的情況下,影響蝕刻加工速度的因素很多,其中主要的是蝕刻劑的種類、濃度及蝕刻溫度。如果蝕刻劑的濃度及蝕刻條件一定,材料的特性及熱處理狀態(tài)對(duì)蝕刻加工的速度同樣有很大的影響。


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