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理想的靶磁場(chǎng)分布應(yīng)該是在整個(gè)靶面范圍內(nèi)的均勻分布,大型鈦金板真空離子鍍膜機(jī),盡量增強(qiáng)靶面范圍內(nèi)各處磁場(chǎng)的水平分量,提高其均勻性。但在經(jīng)典的靶磁場(chǎng)結(jié)構(gòu)中,不均勻分布的磁場(chǎng)會(huì)產(chǎn)生密度不均勻分布的等離子體,丹陽離子鍍膜機(jī),因而導(dǎo)致在靶面不同位置處的濺射速率不同和刻蝕速度不同,同時(shí)膜層沉積的均勻性也不好。顯然增加靶磁場(chǎng)均勻性能夠增加靶面刻蝕的均勻性,從而延長(zhǎng)靶的壽命,提高靶材的利用率;同時(shí)合理的電磁場(chǎng)分布還能夠有效地提高濺射過程的穩(wěn)定性。

濺射過程中涉及到復(fù)雜的散射過程和多種能量傳遞過程:首先,入射粒子與靶材原子發(fā)生彈性碰撞,入射粒子的一部分動(dòng)能會(huì)傳給靶材原子,某些靶材原子的動(dòng)能超過由其周圍存在的其它原子所形成的勢(shì)壘(對(duì)于金屬是5-10eV),磁控濺射離子鍍膜機(jī)廠家,從而從晶格點(diǎn)陣中被碰撞出來,工具超硬膜離子鍍膜機(jī)廠家,產(chǎn)生離位原子,并進(jìn)一步和附近的原子依次反復(fù)碰撞,產(chǎn)生碰撞級(jí)聯(lián)。當(dāng)這種碰撞級(jí)聯(lián)到達(dá)靶材表面時(shí),如果靠近靶材表面的原子的動(dòng)能大于表面結(jié)合能(對(duì)于金屬是1-6eV),這些原子就會(huì)從靶材表面脫離從而進(jìn)入真空。

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