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由上述分析可知,磁控濺射鍍膜機訂做,靶的磁場強度越大,磁場在端部區(qū)域和直道區(qū)域
的差異越大,端部異??涛g現象越明顯。傳統(tǒng)設計的矩形陰極靶,其端
部磁場強度與中部磁場強度存在著較大的差異,一般情況下,磁控濺射鍍膜機設備,靶的端部
磁場強度僅為中部磁場強度的猿園豫 耀 源園豫,“端部效應”總是產生在中
部直道位置與端部拐角位置的連接處磁場強的部位,也就是電子由弱磁
場向強磁場運動的強磁場一側。有資料介紹,靶端部的濺射刻蝕速率比
靶中間部位的高約員郾 緣 倍。矩形 隕栽韻燒結靶端部拐角處與靶中部溝道深
度比值可以達到員郾 苑緣頤 員,單晶硅靶的比值更高,使本來就不高的靶材利
用率進一步降低。

悅搖 磁場(磁體)的均勻度
如果靶磁場減弱或變化,靶的濺射狀態(tài)將變化,而且將影響等離子
體密度和膜層的均勻度。靶磁體的尺寸誤差應該減少到接近依(園郾 員 耀
園郾 圓)皂皂 。就磁感應強度來說,龍巖磁控濺射鍍膜機,每塊磁體磁場強度的一致性誤差應小于
依(員豫 耀猿豫)。除了磁體排列的性,通過使用鐵磁極片(導磁片)
來擴展磁極和相對磁極,磁控濺射鍍膜機報價,也可以達到減少磁場變化程度的目的。
對于多極磁性系統(tǒng),由于在系統(tǒng)內磁極的數量與傳統(tǒng)的兩極設計相
比多出兩倍多,因此,單個磁體內的任何變化只占整個磁場系統(tǒng)內的許
多相互作用的磁體的很少部分,所以,對多極磁場結構來說,單個磁體
的誤差對整個靶磁場變化的影響被進一步減弱。