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膜厚均勻性與磁控濺射靶的工作狀態(tài)息息相關(guān),如靶的刻蝕狀態(tài),
靶的電磁場(chǎng)設(shè)計(jì)等,因此,為保證膜厚均勻性,國(guó)外的鍍膜設(shè)備制造公
司都有各自的關(guān)于鍍膜設(shè)備———包括核心部件“靶”的整套設(shè)計(jì)方案。
同時(shí),不銹鋼表面鍍膜機(jī)報(bào)價(jià),還有很多專門(mén)從事靶的分析、設(shè)計(jì)和制造的公司,開(kāi)發(fā)出相關(guān)的
應(yīng)用設(shè)計(jì)軟件,根據(jù)客戶的要求對(duì)設(shè)備進(jìn)行優(yōu)化設(shè)計(jì)。國(guó)內(nèi)在鍍膜設(shè)備
的分析及設(shè)計(jì)方面與水平之間還存在較大差距,不銹鋼表面鍍膜機(jī)定做,基本處于仿制
和購(gòu)買(mǎi)階段。

(員)根據(jù)所設(shè)計(jì)的濺射系統(tǒng)結(jié)構(gòu)形式(矩形平面靶、圓形平面靶、
圓柱形磁控靶及其基片的相對(duì)運(yùn)動(dòng)等),選擇不同的數(shù)學(xué)物理模型和相
應(yīng)的計(jì)算程序。
(圓)根據(jù)初步計(jì)算結(jié)果,不銹鋼表面鍍膜機(jī)價(jià)格,設(shè)計(jì)靶的各部結(jié)構(gòu)尺寸。
(猿)根據(jù)所選模型和計(jì)算程序,不銹鋼表面鍍膜機(jī),模擬計(jì)算系統(tǒng)的電磁場(chǎng)分布、靶基
距、基片沉積膜厚等參數(shù);采用數(shù)值模擬的方法,利用蒙特卡羅方法跟
蹤單個(gè)粒子的運(yùn)動(dòng)軌跡,以靶表面電子濃度仿真模擬靶面溝道的刻蝕
輪廓。
(源)根據(jù)仿真模擬計(jì)算結(jié)果(膜厚均勻性等)來(lái)確定該設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)的
合理性。若模擬結(jié)果合理,則作為終設(shè)計(jì);反之則修改相應(yīng)的結(jié)構(gòu)參
數(shù)并重復(fù)以上過(guò)程。

注冊(cè)資金:50萬(wàn)
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