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河北真空鍍膜機、佛欣真空、高真空鍍膜機

真空鍍膜機廠廠家

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員猿郾圓郾圓郾圓搖靶磁場的優(yōu)化設計

粵搖改進磁路布置

靶磁體和磁路的布置直接影響濺射靶的刻蝕均勻度和沉積膜厚的均

勻性。在靶的設計中，改進磁控濺射靶的磁路布置（包括磁體形狀、極

靴結(jié)構、磁體之間的間隙等），改善磁場分布，采用組合磁場結(jié)構或多極

磁體結(jié)構，從而使放電區(qū)加寬，河北真空鍍膜機，加大靶功率，拓寬靶的“跑道”刻蝕區(qū)和

改善濺射粒子的沉積分布，真空鍍膜機廠，從而提高膜厚的均勻度和靶材利用率。

增加輔助磁場構成非平衡磁控濺射，從而拓寬濺射面積，相應改善

沉積膜層的均勻性。

盡管磁控濺射的真空度較二極濺射高，鈦金真空鍍膜機，但由于濺射出的粒子一般還

要經(jīng)過數(shù)次碰撞才能到達基片，可以認為濺射出的粒子經(jīng)碰撞后到達基

片的幾率與其路徑長度成反比。如果鍍膜室的線徑尺寸較小，氣壓的影

響不是很大，但對于鍍膜室較大的鍍膜設備，則不能忽略沉積粒子遷移

過程中的氣體碰撞。而且靶基距越大，濺射粒子遷移的路程越長，散射

碰撞越嚴重，高真空鍍膜機，到達基片上的幾率越小，此處鍍層的厚度就越小。但是在

一般情況下，這種影響的程度較輕，是靶基距對膜層厚度影響的次要

因素。

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