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顯然增加磁場均勻性能夠增加靶面刻蝕的均勻性,從而延長靶的壽命、提高靶材的利用率,而且合理的電磁場分布還能夠有效地提高濺射過程的穩(wěn)定性。可以根據(jù)靶面磁力線分布來分析靶表面的刻蝕情況,使等離子體存在于更大的靶面范圍,實現(xiàn)靶面的均勻濺射。想了解更多離子真空鍍膜機|金屬表面鍍膜機|真空鍍膜機設備請聯(lián)系佛山市佛欣真空設備有限公司

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