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真空鍍膜技術(shù)是真空應(yīng)用技術(shù)的一個重要領(lǐng)域，它是以真空
技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學的方法并且吸收了電子束、分子束、
離子束、等離子束、射頻、磁控等一系列新的技術(shù)，裝飾涂層設(shè)備廠，為科學研究與生
產(chǎn)提供了膜層涂覆的新工藝、新技術(shù)。簡單地說，在真空中把金
屬、合金或化合物進行蒸發(fā)（或濺射），使其在被涂覆的物體（稱基
板、基片或基體）上凝固、沉積的方法就稱為真空鍍膜。
１１２２ 真空濺射鍍膜
在真空室中，利用荷能粒子轟擊材料表面，使其原子獲得足夠
能量而濺出進入氣相，裝飾涂層設(shè)備價格，然后在工件表面沉積的過程稱為濺射鍍
。濺射鍍膜的基本原理是，深圳裝飾涂層設(shè)備，以鍍膜材料為陰極，以工件（基板）為
極，在真空條件下，利用輝光放電，使通入的氬氣電離。氬離子
擊靶材，產(chǎn)生陰極濺射效應(yīng)，靶材原子脫離靶表面后飛濺到基板
形成膜層。為提高氬氣碰撞、電離幾率，從而提高濺射速率，多
強化放電過程的技術(shù)方法被開發(fā)和應(yīng)用，主要包括三極、四極濺
、磁控濺射、對向靶濺射、離子束濺射、射頻濺射、反應(yīng)濺射等。
些內(nèi)容在相關(guān)的書籍中（《表面沉積技術(shù)》，王福貞、聞立時，編
）均有較為詳細的闡述，這里就不再贅言。
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