烏海超純水設(shè)備|芯片清洗用超純水設(shè)備|川一水處理設(shè)備
清洗超純水設(shè)備廠家
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如果電壓升高或給水離子濃度減小，樹脂將會釋放一些離子進入濃水，化妝品超純水設(shè)備，離開組件工作樹脂層的離子數(shù)將大于進入組件的離子數(shù)。最后達到新的穩(wěn)定狀態(tài)時，離子遷移速率和給水離子相協(xié)調(diào)。此時，離子交換樹脂的工作前沿將向給水端移動，拋光層樹脂總量增加。進出組件的離子達到物料平衡是判斷EDI組件是否處于穩(wěn)定運行狀態(tài)的有效手段
反洗關(guān)閉進水閥、產(chǎn)水閥；打開反洗進水閥、反洗排放閥，以10m/h反洗15min。然后，超純水設(shè)備，關(guān)閉反洗進水閥、反洗排放閥。靜置，沉降5~10min。開排氣閥、中排閥，部分排水至樹脂層表面上10cm左右，關(guān)閉排氣閥、中排閥。再生開進水閥、加酸泵、進酸閥、中排閥，以5m/s、200L/h對陽樹脂進行再生，用反滲透產(chǎn)水對陰樹脂進行清洗，維持柱內(nèi)液面在樹脂層表面上10cm。對陽樹脂再生30min后，關(guān)進水閥、加酸泵、進酸閥，開反洗進水閥、加堿泵、進堿閥，以5m/s、200L/h對陰樹脂進行再生，用反滲透產(chǎn)水對陽樹脂進行清洗，烏海超純水設(shè)備，維持柱內(nèi)液面在樹脂層表面上10cm，再生30min。置換、混脂、沖洗關(guān)加堿泵、進堿閥，開進水閥，上下同時進水對樹脂進行置換、清洗。30min后，關(guān)進水閥、反洗進水閥、中排閥，開反洗排放閥、進氣閥、排氣閥，以壓力0.1~0.15MPa，氣量2~3m3/(m2·min)，混合樹脂0.5~5min。關(guān)反洗排放閥、進氣閥，芯片清洗用超純水設(shè)備，沉降1~2min。開進水閥、正洗排放閥，調(diào)節(jié)排氣閥，灌水至柱內(nèi)無空氣后，關(guān)排氣閥，對樹脂沖洗。當電導率達到要求時，開產(chǎn)水閥，關(guān)正洗排放閥，開始制水。
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