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工業(yè)CT的射線源的選擇
射線源常用有和電子直線加速l器,統(tǒng)稱(chēng)電子輻射發(fā)生器。電子輻射發(fā)生器的共同優(yōu)點(diǎn)是切斷電源以后不再產(chǎn)生射線,這種內(nèi)在的安全性對(duì)于工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)使用非常有益。
同位素輻射源的最l大優(yōu)點(diǎn)是它的能譜簡(jiǎn)單,同時(shí)消耗電能很小,設(shè)備體積小且相對(duì)簡(jiǎn)單;其缺點(diǎn)是輻射源的強(qiáng)度低,為了提高源的強(qiáng)度必須加大源的體積,導(dǎo)致“焦點(diǎn)”尺寸增大,三坐標(biāo),導(dǎo)致分辨率指標(biāo)不理想,故在工業(yè)CT中較少實(shí)際應(yīng)用。射線能量可調(diào),能量≤450kV,電子直線加速l器射線源能量不可調(diào),實(shí)際使用的峰值能量范圍1~16MeV,更高的能量雖可以達(dá)到,三豐三坐標(biāo),主要僅用于實(shí)驗(yàn)。
實(shí)際應(yīng)用中,射線源的選擇主要取決于被檢工件的壁厚,同時(shí)也要考慮費(fèi)用問(wèn)題。表1列出了幾種材料對(duì)于一些特征能量下執(zhí)行加速l器X射線的半值層厚度。
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X射線投射檢測(cè)技術(shù)基本原理

在X-Ray檢測(cè)的過(guò)程中, X-Ray穿過(guò)待檢樣品,然后在圖像探測(cè)器(現(xiàn)在大多使用X-Ray圖像增強(qiáng)器)上形成一個(gè)放大的X光圖。該圖像的質(zhì)量主要由分辨率及對(duì)比度決定。
成像系統(tǒng)的分辨率(清晰度) 決定于X射線源焦斑的大小、X光路的幾何放大率和探測(cè)器像素大小。微焦點(diǎn)X光管的焦斑可小到幾個(gè)微米。X光路的幾何放大率可達(dá)到10~2500倍,探測(cè)器像素可小到幾十微米。
成像系統(tǒng)的對(duì)比度決定于圖像探測(cè)器的探測(cè)效率、電子學(xué)系統(tǒng)的信噪比和合適的X射線能量。目般的X射線成像技術(shù)可以獲得好于1%的對(duì)比度。
注冊(cè)資金:100萬(wàn)元人民幣
聯(lián)系人:朱鴻
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