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擴(kuò)散爐主要是完成半導(dǎo)體元器件的擴(kuò)散,可作元器件的燒結(jié)、退火、等工藝,具有應(yīng)用范圍廣、安全可靠、控制精度高等特點(diǎn)。
擴(kuò)散爐的控制部分包括:溫控器、功率部件、超溫保護(hù)部件、系統(tǒng)控制。擴(kuò)散爐的系統(tǒng)控制部分有四個(gè)獨(dú)立的計(jì)算機(jī)控制單元,分別控制每層爐管的推舟、爐溫及氣路部分,真空擴(kuò)散爐,是擴(kuò)散/氧化系統(tǒng)的控制中心。擴(kuò)散爐的輔助控制系統(tǒng),包括推舟控制裝置、保護(hù)電路、電路轉(zhuǎn)接控制、三相電源指示燈、照明、凈化及抽風(fēng)開關(guān)等。


擴(kuò)散爐是集成電路生產(chǎn)線前工序的重要工藝設(shè)備之一,合肥擴(kuò)散爐, 常用于大規(guī)模集成電路、分立器件、電力電子、光電器件、光導(dǎo)纖維等行業(yè)中進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金及燒結(jié)等工藝,由四部分組成:控制柜、推舟凈化臺(tái)、電阻加熱爐和氣源柜。
擴(kuò)散爐是集成電路生產(chǎn)線前工序的重要工藝設(shè)備之一,它的主要用途是對(duì)半導(dǎo)體進(jìn)行摻雜,即在高溫條件下將摻雜材料擴(kuò)散入硅片,從而改變和控制半導(dǎo)體內(nèi)雜質(zhì)的類型、濃度和分布,以便建立起不同的電特性區(qū)域。



注冊資金:100萬-500萬
聯(lián)系人:程經(jīng)理
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