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化學(xué)拋光 化學(xué)拋光是讓材料在化學(xué)介質(zhì)中表面微觀凸出的部分較凹部分優(yōu)先溶解,從而得到平滑面.這種方法的主要優(yōu)點(diǎn)是不需復(fù)雜設(shè)備,可以拋光形狀復(fù)雜的工件,可以同時(shí)拋光很多工件,效率高.化學(xué)拋光的核心問(wèn)題是拋光液的配制.化學(xué)拋光得到的表面粗糙度一般為數(shù) 10 μ m .
電解拋光 電解拋光基本原理與化學(xué)拋光相同,不銹鋼電解拋光哪里實(shí)惠,即靠選擇性的溶解材料表面微小凸出部分,使表面光滑.與化學(xué)拋光相比,不銹鋼電解拋光,可以陰極反應(yīng)的影響,效果較好.電化學(xué)拋光過(guò)程分為兩步: ( 1 )宏觀整平 溶解產(chǎn)物向電解液中擴(kuò)散,材料表面幾何粗糙下降,不銹鋼電解拋光哪里做的好, Ra > 1 μ m . ( 2 )微光平整 陽(yáng)極極化,不銹鋼電解拋光哪里銷量好,表面光亮度提高, Ra < 1 μ m .







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