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擴(kuò)散爐是研制生產(chǎn)晶體管、可控硅和集成電路等半導(dǎo)體器件的工藝設(shè)備之一,高溫?cái)U(kuò)散爐,主要用于擴(kuò)散和氧化等工序。
擴(kuò)散爐主要由控制部分、凈化部分、電阻加熱爐部門(mén)、氣路部分組成??刂撇糠种饕刂七M(jìn)出口,安徽擴(kuò)散爐,電阻加熱爐主要是控制擴(kuò)散爐的溫度部分,氣路主要控制擴(kuò)散源的流量及尾氣的排放量。
擴(kuò)散爐是一種能自動(dòng)控制溫度的電阻爐。由溫度控制器、可控硅裝置和爐體構(gòu)成。爐體由保溫材料、加熱絲和爐管組成。溫度控制器可控制裝置對(duì)爐溫進(jìn)行自動(dòng)控制,使?fàn)t膛溫度保持穩(wěn)定、均勻,以滿足工藝要求。


真空擴(kuò)散爐的工作原理:真空擴(kuò)散爐是熱處置的大型設(shè)備,可編多個(gè)不同程序,能操控和編入上百個(gè)熱處置曲線點(diǎn),分上、下、左右、前后六區(qū)控溫,能夠進(jìn)行真空釬焊,真空退火,真空時(shí)效等多種加工,真空擴(kuò)散爐,有多點(diǎn)和單點(diǎn)溫度記錄儀以及過(guò)溫保護(hù)裝備,爐溫均衡性可操控在恒定溫度范圍以內(nèi),另配有高純氮高流量強(qiáng)冷裝備。合肥日新高溫技術(shù)有限公司。



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