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入爐的硅石要求有一定的粒度。硅石的粒度是冶煉的一個重要工藝因素。硅石適宜粒度受硅石種類、電爐、容量、操作狀況以及還原劑的種類和粒度等多種因素影響,金屬硅生產(chǎn)廠家,要根據(jù)具體的冶煉條件來決定。一般情況下,6300KVA三相電爐(1983年大悟硅廠建成),要求硅石粒度在8-100mm,3200KVA三相電爐,要求硅石粒度為8-80mm,而且中間粒度組成的比例要大些。

在硅冶煉爐中,電極就是心臟,河南金屬硅,是導電系統(tǒng)的重要組成部分。電流是通過電極輸入爐內(nèi)產(chǎn)生電弧,用于化學硅冶煉。對電極材料的要求:(1)導電性好、電阻率小,以減少電能損失。(2)熔點要高,熱膨脹系數(shù)要小,不易變形;(3)高溫時有足夠的機械強度,金屬硅塊,雜質(zhì)含量低。石墨電極的灰分含量低,導電性、耐熱性和耐腐蝕性能都比較好,是化學用硅冶煉的首要選擇。

金屬硅是由石英和焦炭在電熱爐內(nèi)冶煉成的產(chǎn)品,主成分硅元素的含量在98%左右(含Si量99.99%的也包含在金屬硅內(nèi)),金屬硅廠家,其余雜質(zhì)為鐵、鋁、鈣等。半導體硅用于制作半導體器件的高純度金屬硅。是以多晶、單晶形態(tài)出售,前者價廉,后者價昂。因其用途不同而劃分為多種規(guī)格。據(jù)統(tǒng)計,1985年全共消耗金屬硅約50萬噸,其中用于鋁合金的金屬硅約占60%,用于有機硅的不足30%,用于半導體的約占3%,其余用于鋼鐵冶煉及精密陶瓷等。


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