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磁控濺射靶材

      北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作，為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供的靶材和蒸發(fā)料。公司主營(yíng)金屬靶材、金屬材料、光學(xué)鍍膜材料等。

      磁控濺射靶材應(yīng)用領(lǐng)域

      存儲(chǔ)用在儲(chǔ)存技術(shù)方面，高密度、大容量硬盤的發(fā)展，鎳靶，需要大量的巨磁阻薄膜材料，CoF ~Cu多層復(fù)合膜是如今應(yīng)用廣泛的巨磁阻薄膜結(jié)構(gòu)。磁光盤需要的 T b F e C o合金靶材還在進(jìn)一步發(fā)展，用它制造的磁光 盤具有存儲(chǔ)容量大，壽命長(zhǎng)，可反復(fù)無接觸擦寫的特 點(diǎn)。如今開發(fā)出來的磁光盤，具有 T b F e C o / T a和 T b F e C o / Al 的 層復(fù)合膜結(jié)構(gòu)， T bF eCo/AI結(jié)構(gòu)的Kerr 旋轉(zhuǎn)角達(dá)到5 8，而T b F e Co f F a 則可以接近0.8。經(jīng)過研究發(fā)現(xiàn)，鎳靶， 低磁導(dǎo)率的靶材高交流局部放電電壓 l 抗電強(qiáng)度。

石久高研專注15年提供高純金屬靶材  、高純靶材歡迎來電咨詢~~~

PVD制程所用的靶材需要檢驗(yàn)?zāi)男╉?xiàng)目

      北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作，鎳靶價(jià)格，為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供的靶材和蒸發(fā)料。公司主營(yíng)金屬靶材、金屬材料、光學(xué)鍍膜材料等。

      1.靶材的純度，可以用化學(xué)分析法、光譜能量測(cè)定法等方法檢驗(yàn)；

      2.晶粒度：要求晶粒越細(xì)小越好。而且晶粒要盡可能均勻一致?？梢杂霉鈱W(xué)顯微鏡檢驗(yàn)；

      3.密度：原則上，靶材的密度越高越好。密度越高，晶粒間隙越小，壓制緊密，靶材質(zhì)量越好?？梢杂梅Q量法檢驗(yàn)；

      4.組織均勻性：對(duì)于兩種成份以上的合成靶，特別是相互難融的成分，還可以做金相檢驗(yàn)，看成分、組織是否均勻一致；

      5.機(jī)械性能:有些靶材，如有色金屬等可以要求一下。石墨靶，好一點(diǎn)的，也有該要求。檢驗(yàn)用專門的機(jī)械性能試驗(yàn)機(jī)。

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