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高純硅靶|石久高研|北京高純硅靶廠家

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北京市高純硅靶廠家

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      特    點(diǎn):高硬度、高熔點(diǎn)和沸點(diǎn)、強(qiáng)抗腐蝕性、有光澤、有延展性。

      用    途:用于生產(chǎn)金屬陶瓷和耐高溫非鐵基合金部件。

       作為裝飾性或功能性鍍層也被廣泛應(yīng)用于電鍍行業(yè)

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      高純銅粒,銅靶

      化學(xué)符號(hào):Cu原 子 量:63.546外觀純銅:紫紅色金屬熔 點(diǎn):1083.4℃沸 點(diǎn):2567℃密 度:8.92g/cm3蒸 發(fā) 源(絲、片):鎢、鉭、鉬、鈮坩 堝:Mo、C、Al2O3在10-4Torr蒸發(fā)溫度:1017℃ 薄膜的機(jī)械和化學(xué)性質(zhì):膜層附著不好,利用中間層Cr可增加附著力;性 能:質(zhì)地堅(jiān)韌、有延展并有順磁性,高純銅具有良好的導(dǎo)電性、延展性、抗腐蝕能力和表面性能;6N銅在近350K時(shí)軟化而4N銅在440K時(shí)軟化;銅在干燥的空氣中不易被氧化,但銅子含有CO2的潮濕 空氣中,北京高純硅靶生產(chǎn)廠家,表面與空氣中CO2生成一層有毒的堿式碳酸銅(銅綠)這層膜保護(hù)銅不在被CO2腐蝕;在空氣中加熱時(shí)表面會(huì)與O2形成黑色氧化銅;在和稀中不易被溶解,但是銅能溶于具有氧化作用的含有氧化劑的中;還溶于。高純銅在極低的溫度下具有高的導(dǎo)熱性,在8K時(shí)6N銅的熱導(dǎo)率為3.0×104W/(m?K),而4N銅在18K時(shí)的熱導(dǎo)率為3.1×103W/(m?K)。高純銅具有優(yōu)良的加工性能,可以被拉成很細(xì)的銅絲,也可以被壓制成很薄的銅箔。如果高純銅中硫含量極低,則在600-700K時(shí)銅的脆性將消失,北京高純硅靶廠家,而這時(shí)普通的銅的脆性還存在。而如雜質(zhì)氧含量很低時(shí),高純銅的氫脆現(xiàn)象也消失。應(yīng) 用:保護(hù)膜,反射膜,增透膜

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