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微弧氧化設備的基本設備
微弧氧化的基本設備配置與陽極氧化大體相同,由氧化槽、電源及溶液的冷卻與攪拌系統(tǒng)三部分組成。圖9-7是微弧氧化裝置的示意圖,微弧氧化槽由不銹鋼板焊接而成,外面有塑料板包裹,也就是不銹鋼槽體與電極4置于塑料槽體7內(nèi),徐州微弧氧化設備,鋁合金樣品1固定在支架2上,不銹鋼槽體與電極及樣品支架分別連接到電源9的兩極。微弧氧化的電源與普通陽極氧化不同,普通陽極氧化一般采用直流、交流或脈沖三大類型電源,微弧氧化由于采用較高的電壓,通常采用正向與負向成一定比例的交流電。由于Al2O3薄膜具有二極管特性,因此正向與反向的電阻相差較大,采用相同的正、負向電壓,會使負向電流過大而造成電源的損壞,也不利于Al2O3膜的生成。因此在制作微弧氧化的電源時,需要制作正向和負向兩組獨立的電源,這樣就加大了電源制作的難度。施加在樣品表面上的兩組電流的電壓不能同時作用,必須讓一組電源作用完以后,才能允許另一組電源通過,否則會使電源的可控系統(tǒng)損毀。至于電流和電壓的波形可以是鋸齒形、方波或其他波形,按照工藝需要由用戶選擇使用。

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