鍺靶、石久高研、 鍺靶廠

濺射靶材

北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作，為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供的靶材和蒸發(fā)料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學(xué)鍍膜材料等。

高純銅靶材主要應(yīng)用領(lǐng)域

平面顯示器產(chǎn)業(yè)：平面顯示器包括液晶顯示器(LCD)、等離子體顯示器(PDP)等等。目前，在平面顯示器市場中以液晶顯示器(LCD)為主，其市場占有率超過85%，被認(rèn)為是目前最有應(yīng)用前景的平面顯示器件，廣泛應(yīng)用于筆記本電腦顯示器、臺式電腦監(jiān)視器和高清晰電視機(jī)。LCD的制造工藝較復(fù)雜，其中降低反射層、透明電極、發(fā)射極與陰極均由濺射方法形成，因此，在LCD產(chǎn)業(yè)中濺射靶材起著重要作用。

高純度銅靶材在以上領(lǐng)域都有廣泛應(yīng)用， 鍺靶供應(yīng)商，并且對所需濺射靶材的質(zhì)量提出了越來越高的要求。

石久高研專注15年提供高純金屬靶材  、高純靶材歡迎來電咨詢~~~

什么是金屬靶材

      北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作，為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供的靶材和蒸發(fā)料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學(xué)鍍膜材料等。

      金屬靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料。有金屬類、合金類、氧化物類等等。鎢-鈦（W-Ti）膜以及以鎢-鈦（W-Ti）為基的合金膜是高溫合金膜，具有一系列不可替代的優(yōu)良性能。鎢具有高熔點(diǎn)、高強(qiáng)度和低的熱膨脹系數(shù)等性能， 鍺靶廠，W/ Ti 合金具有低的電阻系數(shù)、良好的熱穩(wěn)定性能。如各種器件都需要起到導(dǎo)電作用的金屬布線，例如Al 、Cu 和Ag 等已經(jīng)被廣泛的應(yīng)用和研究。

石久高研專注15年提供高純靶材 、高純靶材歡迎來電咨詢~~

真空鍍膜靶材

北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作，為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供的靶材和蒸發(fā)料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學(xué)鍍膜材料等。

靶中毒的影響因素

影響靶中毒的因素主要是反應(yīng)氣體和濺射氣體的比例，反應(yīng)氣體過量就會導(dǎo)致靶中毒。反應(yīng)濺射工藝進(jìn)行過程中靶表面濺射溝道區(qū)域內(nèi)出現(xiàn)被反應(yīng)生成物覆蓋或反應(yīng)生成物被剝離而重新暴露金屬表面此消彼長的過程。如果化合物的生成速率大于化合物被剝離的速率，化合物覆蓋面積增加。在一定功率的情況下， 鍺靶，參與化合物生成的反應(yīng)氣體量增加，化合物生成率增加。如果反應(yīng)氣體量增加過度，化合物覆蓋面積增加，如果不能及時調(diào)整反應(yīng)氣體流量，化合物覆蓋面積增加的速率得不到抑制，濺射溝道將進(jìn)一步被化合物覆蓋， 鍺靶批發(fā)，當(dāng)濺射靶被化合物全部覆蓋的時候，靶完全中毒，在靶面上沉積一層化合金屬膜。使其很難被再次反應(yīng)。

石久高研專注15年提供高純金屬靶材  、高純靶材歡迎來電咨詢~~~