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濺射靶材

北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產工作，為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供的靶材和蒸發(fā)料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學鍍膜材料等。

靶中毒的物理解釋

一般情況下，金屬化合物的二次電子發(fā)射系數(shù)比金屬的高，靶中毒后，靶材表面都是金屬化合物，在受到離子轟擊之后，釋放的二次電子數(shù)量增加，提高了空間的導通能力，降低了等離子體阻抗，導致濺射電壓降低。從而降低了濺射速率。一般情況下磁控濺射的濺射電壓在400v-600v之間，當發(fā)生靶中毒時，鈦靶廠家，濺射電壓會顯著降低。

減反射膜

北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產工作，為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供的靶材和蒸發(fā)料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學鍍膜材料等。

原理

減反射膜是以光的波動性和干涉現(xiàn)象為基礎的。二個振幅相同，波長相同的光波疊加，那么光波的振幅增強；如果二個光波原由相同，波程相差，如果這二個光波疊加，那么互相抵消了。減反射膜就是利用了這個原理，在鏡片的表面鍍上減反射膜，使得膜層前后表面產生的反射光互相干擾，從而抵消了反射光，達到減反射的效果。

1）振幅條件

膜層材料的折射率必須等于鏡片片基材料折射率的平方根。

2）位相條件

膜層厚度應為基準光的1/4波長。d=λ/4 λ=555nm時，d=555/4=139nm

對于減反射膜層，許多眼鏡片生產商采用人眼敏感度較高的光波（波長為555nm)。當鍍膜的厚度過薄（〈139nm)，反射光會顯出淺棕黃色，如果呈藍色則表示鍍膜的厚度過厚（ 〉139nm）。

鍍膜反射膜層的目的是要減少光線的反射，但并不可能做到沒有反射光線。鏡片的表面也總會有殘留的顏色，但殘留顏色哪種是好的，其實并沒有標準，目前主要是以個人對顏色的喜好為主，較多為綠色的色系。

我們也會發(fā)現(xiàn)殘留顏色在鏡片凸面與凹面的曲率不同也使鍍膜的速度不同，因此在鏡片中央部分呈綠色，而在邊緣部分則為淡紫紅色或其它顏色。

石久高研專注15年提供高純金屬靶材  、高純靶材歡迎來電咨詢~~~

光學鍍膜

北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年，鈦靶廠， 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產工作，為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供的靶材和蒸發(fā)料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學鍍膜材料等。

技術特征

1）第1代抗磨損膜技術

抗磨損膜始于20世紀70年代初，當時認為玻璃鏡片不易磨制是因為其硬度高，而有機鏡片則太軟所以容易磨損。因此將石英材料于真空條件下鍍在有機鏡片表面，形成一層非常硬的抗磨損膜，但由于其熱脹系數(shù)與片基材料的不匹配，很容易脫膜和膜層脆裂，因此抗磨損效果不理想。

2）第二代抗磨損膜技術

20世紀80年代以后，研究人員從理論上發(fā)現(xiàn)磨損產生的機理不僅僅與硬度相關，膜層材料具有“硬度/形變”的雙重特性，即有些材料的硬度較高，但變形較小，而有些材料硬度較低，鈦靶，但變形較大。第二代的抗磨損膜技術就是通過浸泡工藝法在有機鏡片的表面鍍上一種硬度高且不易脆裂的材料。

3）第三代抗磨損膜技術

第三代的抗磨損膜技術是20世紀90年代以后發(fā)展起來的，主要是為了解決有機鏡片鍍上減反射膜層后的耐磨性問題。由于有機鏡片片基的硬度和減反射膜層的硬度有很大的差別，新的理論認為在兩者之間需要有一層抗磨損膜層，使鏡片在受到砂礫磨擦時能起緩沖作用，并而不容易產生劃痕。第三代抗磨損膜層材料的硬度介于減反射膜和鏡片片基的硬度之間，其磨擦系數(shù)低且不易脆裂。

4）第四代抗磨損膜技術

第四代的抗膜技術是采用了硅原子，例如法國依視路公司的帝鍍斯（TITUS）加硬液中既含有有機基質，又含有包括硅元素的無機超微粒物，使抗磨損膜具備韌性的同時又提高了硬度?，F(xiàn)代的鍍抗磨損膜技術最主要的是采用浸泡法，即鏡片經過多道清洗后，浸入加硬液中，鈦靶批發(fā)，一定時間后，以一定的速度提起。這一速度與加硬液的黏度有關，并對抗磨損膜層的厚度起決定作用。提起后在100 °C左右的烘箱中聚合4－5小時，鍍層厚約3－5微米。

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