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潔凈室最主要之作用在于控制產(chǎn)品（如硅芯片等）所接觸之大氣的潔凈度日及溫濕度，使產(chǎn)品能在一個(gè)良好之環(huán)境空間中生產(chǎn)、制造，此空間我們稱之為潔凈室。按照國(guó)際慣例，無(wú)塵凈化級(jí)別主要是根據(jù)每立方米空氣中粒子直徑大于劃分標(biāo)準(zhǔn)的粒子數(shù)量來(lái)規(guī)定。也就是說(shuō)所謂無(wú)塵并非沒(méi)有一點(diǎn)灰塵，而是控制在一個(gè)非常微量的單位上。

當(dāng)然這個(gè)標(biāo)準(zhǔn)中符合灰塵標(biāo)準(zhǔn)的顆粒相對(duì)于我們常見(jiàn)的灰塵已經(jīng)是小的微乎其微，但是對(duì)于光學(xué)構(gòu)造而言，哪怕是一點(diǎn)點(diǎn)的灰塵都會(huì)產(chǎn)生非常大的不良影響，所以在光學(xué)構(gòu)造產(chǎn)品的生產(chǎn)上，無(wú)塵是必然的要求。每立方米將小于0.3微米粒徑的微塵數(shù)量控制在3500個(gè)以下，就達(dá)到了國(guó)際無(wú)塵標(biāo)準(zhǔn)的A級(jí)。應(yīng)用在芯片級(jí)生產(chǎn)加工的無(wú)塵標(biāo)準(zhǔn)對(duì)于灰塵的要求高于A級(jí)，這樣的高標(biāo)主要被應(yīng)用在一些等級(jí)較高芯片生產(chǎn)上。微塵數(shù)量被嚴(yán)格控制在每立方米1000個(gè)以內(nèi)，這也就是業(yè)內(nèi)俗稱的1K級(jí)別。

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空氣凈化工程在提高產(chǎn)品質(zhì)量等方面有很明最的效果，據(jù)國(guó)外文獻(xiàn)的報(bào)導(dǎo)，對(duì)于半導(dǎo)體在10000級(jí)和l00級(jí)潔凈室中制造的產(chǎn)品通過(guò)耐壓試驗(yàn)，在l00級(jí)潔凈室和外大氣環(huán)境中進(jìn)行晶體管涂布擴(kuò)散，100級(jí)潔凈室中產(chǎn)品的性能分布集中，而且峰值出現(xiàn)在更高性能的地方。

而在大氣環(huán)境中的產(chǎn)品的性能極為分散，性能也極不穩(wěn)定?？梢钥闯觯?/p>

①有無(wú)空氣凈化，產(chǎn)品成品率有很大差別，

②為了提高產(chǎn)品質(zhì)量，不僅生產(chǎn)產(chǎn)品的環(huán)境需要潔凈，而且其關(guān)鍵的原材料、配料的生產(chǎn)也應(yīng)在潔凈環(huán)境中進(jìn)行．但是，和對(duì)待任何事物不能juedui化一樣，對(duì)待空氣潔凈技術(shù)的作用也不能juedui化，不能把提高產(chǎn)品質(zhì)量的作用完全歸之于它。

據(jù)國(guó)外材料分析，例如對(duì)于半導(dǎo)體元件部門，空氣潔凈技術(shù)在提高產(chǎn)品質(zhì)量方面的作用大約在整個(gè)生產(chǎn)中占的比重為20%，而生產(chǎn)工藝自動(dòng)化作用的比重占60%，其他因素占20%。當(dāng)然，在已經(jīng)解決了生產(chǎn)工藝的問(wèn)題以后，空氣凈化就是主要矛盾，例如超大規(guī)模集成電路，沒(méi)有潔凈的環(huán)境，則幾乎是生產(chǎn)不出來(lái)的。對(duì)于需要空氣凈化的行業(yè)和部門有：電子、精密機(jī)械、航空、化學(xué)工業(yè)，印刷工業(yè)，原子能工業(yè)、食品工業(yè)、、動(dòng)物實(shí)驗(yàn)、注塑工業(yè)等。

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