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濺射靶材
北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作,氧化銻公司,為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供的靶材和蒸發(fā)料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學(xué)鍍膜材料等。

靶材的主要性能要求:
為了減少靶材固體中的氣孔,提高濺射薄膜的性能,通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅影響濺射速率,還影響著薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。此外,氧化銻報(bào)價(jià),提高靶材的密度和強(qiáng)度使靶材能更好地承受濺射過程中的熱應(yīng)力。密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標(biāo)之一。

石久高研專注15年提供高純金屬靶材 、高純靶材歡迎來電咨詢~~~





金屬靶材
北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作,氧化銻,為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供的靶材和蒸發(fā)料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學(xué)鍍膜材料等。

金屬靶材材質(zhì)分類:
⒈金屬靶材鎳靶、Ni、鈦靶、Ti、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、Mg、鈮靶、Nb、錫靶、Sn、鋁靶、Al、銦靶、In、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiAl、鋯靶、Zr、鋁硅靶、AlSi、硅靶、Si、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、Ge、銀靶、Ag、鈷靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、La、釔靶、Ce、鎢靶、w、不銹鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、Hf、鉬靶、Mo、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等。

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PVD制程所用的靶材需要檢驗(yàn)?zāi)男╉?xiàng)目
北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作,為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供的靶材和蒸發(fā)料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學(xué)鍍膜材料等。

1.靶材的純度,可以用化學(xué)分析法、光譜能量測(cè)定法等方法檢驗(yàn);
2.晶粒度:要求晶粒越細(xì)小越好。而且晶粒要盡可能均勻一致??梢杂霉鈱W(xué)顯微鏡檢驗(yàn);
3.密度:原則上,靶材的密度越高越好。密度越高,氧化銻價(jià)格,晶粒間隙越小,壓制緊密,靶材質(zhì)量越好??梢杂梅Q量法檢驗(yàn);
4.組織均勻性:對(duì)于兩種成份以上的合成靶,特別是相互難融的成分,還可以做金相檢驗(yàn),看成分、組織是否均勻一致;
5.機(jī)械性能:有些靶材,如有色金屬等可以要求一下。石墨靶,好一點(diǎn)的,也有該要求。檢驗(yàn)用專門的機(jī)械性能試驗(yàn)機(jī)。

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