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卷繞式真空鍍膜機能夠沉積的鍍膜層厚度范圍為0.01-0.2μm,可以在這個范圍內(nèi)選擇,真空儲存,有的還可以鍍多層膜,滿足多種需要。日本提出沉積兩種不同 鍍膜材料的卷繞式蒸鍍裝置。該裝置的真空室分為上室,左下室和右下。蒸鍍時,非標真空系統(tǒng),兩組蒸發(fā)源蒸發(fā)的鍍膜材料分別沉積在塑料薄膜上,真空,在塑料薄膜沒有蒸鍍的一側,裝上輝光放電發(fā)生器。發(fā)生器產(chǎn)生的輝光放電氣體能防止塑料薄膜起皺。使用 這套裝置可以在極薄的塑料薄膜上鍍上無折皺的多層膜,用于制磁帶和薄膜太陽能電池等。






多弧離子鍍膜機是一種有很高的效率、無害、無污染的離子鍍膜設備,激光器真空系統(tǒng),具有堆積速度快、離化率高、離子能量大、設備操作簡略、本錢低、出產(chǎn)量大的長處。

真空多弧離子鍍膜機偏壓電源的作業(yè)原理:離子鍍膜正本是離子濺射鍍膜,關于導電靶材,運用直流偏壓電源;非導電靶材,運用脈沖偏壓電源。有的多弧離子鍍膜機,可能還需求直流電弧電源或脈沖電弧電源。

注冊資金:500 萬人民幣
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