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用磁控靶源濺射金屬和合金很容易,點(diǎn)火和濺射很方便。這是因?yàn)榘校帢O),等離子體,和被濺零件真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源,回路中加入很強(qiáng)的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個(gè)電容。但高頻磁控濺射電源昂貴,濺射速率很小,同時(shí)接地技術(shù)很復(fù)雜,因而難大規(guī)模采用。為解決此問題,發(fā)明了磁控反應(yīng)濺射。就是用金屬靶,加入氬氣和反應(yīng)氣體如氮?dú)饣蜓鯕?。?dāng)金屬靶材撞向零件時(shí)由于能量轉(zhuǎn)化,與反應(yīng)氣體化合生成氮化物或氧化物。








近十多年,真空離子鍍技術(shù)的發(fā)展是最快的,它已經(jīng)成為了當(dāng)代的表面處理方法之一。我們通常所說的PVD鍍膜,指的就是真空離子鍍膜;通常所說的PVD鍍膜機(jī),指的也就是真空離子鍍膜機(jī)。

Q3: 請(qǐng)問PVD鍍膜的具體原理是什么?
A3: 離子鍍膜(PVD鍍膜)技術(shù),其原理是在真空條件下,采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù),利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)電離,模具鍍膜,在電場(chǎng)的作用下,模具鍍膜設(shè)備價(jià)格,使被蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。

在選真空泵時(shí),首先要注意真空泵在工作時(shí)產(chǎn)生的振動(dòng)對(duì)工藝和環(huán)境是不是存在著影響,如果工藝過程受到影響,應(yīng)該采取防振措施或者另選真空泵。在選擇的時(shí)候需要了解待抽氣體的成分,如果需要選擇性的抽氣,一種泵可能不足以滿足要求,模具鍍膜工藝,必須組合多種不同的泵互相配合工作,模具鍍膜廠家,如果真空鍍膜設(shè)備鍍膜要求無油則要選用無油泵。

真空鍍膜設(shè)備對(duì)于真空度的極限要求和工作壓力強(qiáng)度要求越來越大,對(duì)真空泵的抽真空能力要求就越高,起碼泵的極限抽真空度要高于真空設(shè)備工作真空度的半個(gè)數(shù)量級(jí)以上。

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