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膜厚儀又名膜厚測(cè)試儀,膜厚分析儀,分為手持式和臺(tái)式二種,鍍銀測(cè)厚儀,手持式又有磁感應(yīng)鍍層測(cè)厚儀,電渦流鍍層測(cè)厚儀,山東測(cè)厚儀,熒光X射線儀鍍層測(cè)厚儀。手持式的磁感應(yīng)原理是,利用從測(cè)頭經(jīng)過(guò)非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小,來(lái)測(cè)定覆層厚度。也可以測(cè)定與之對(duì)應(yīng)的磁阻的大小,來(lái)表示其覆層厚度。臺(tái)式的熒光X射線膜厚儀,是通過(guò)一次X射線穿透金屬元素樣品時(shí)·產(chǎn)生低能量的光子,俗稱為二次熒光,在通過(guò)計(jì)算二次熒光的能量來(lái)計(jì)算厚度值。

涂層測(cè)厚儀操作規(guī)程有哪些
我們?cè)谑褂猛繉訙y(cè)厚儀時(shí),如果不了解涂層測(cè)厚儀的操作規(guī)程,那么就很容易出現(xiàn)一些問(wèn)題,甚至嚴(yán)重的可能會(huì)對(duì)自身產(chǎn)生威脅,那么涂層測(cè)厚儀的操作規(guī)程有哪些,下面就來(lái)了解下先:
一、技術(shù)參數(shù)
采用了磁性和渦流兩種測(cè)厚方法。通過(guò)選擇相應(yīng)的測(cè)頭,即可測(cè)量磁性金屬基體上非磁性覆蓋層的厚度,國(guó)產(chǎn)測(cè)厚儀,又可測(cè)量非磁性金屬基體上非導(dǎo)電覆蓋層的厚度;
測(cè)量范圍:(0~1250)μm(F1、N1測(cè)頭),F(xiàn)10測(cè)頭可達(dá)10mm;
分辨率:0.1μm(F1、N1測(cè)頭)
示值精度:±(3%H+1)μm;H為被測(cè)涂層厚度
顯示方法:高對(duì)比度的段碼液晶顯示,高亮度EL背光;
存儲(chǔ)容量:可存儲(chǔ)20組(每組最多50個(gè)測(cè)量數(shù)值)測(cè)量數(shù)據(jù)
單位制:公制μm、英制(mil)、可自由轉(zhuǎn)換 ? 工作電壓:3V(2節(jié)5號(hào)堿性電池)
持續(xù)工作時(shí)間:大于200小時(shí)(不開(kāi)背光燈)
通訊接口:USB1.1,可與PC機(jī)連接、通訊


注冊(cè)資金:1000萬(wàn)元整
聯(lián)系人:鄧女士
固話:0512-57757039
移動(dòng)手機(jī):18994336605
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