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金屬離子注入離子注入技術(shù)本身屬于非平衡技術(shù),其突出特點(diǎn)是不受任何常規(guī)合金化熱力學(xué)條件的限制,把原子如Cr、AI等有益合金直接引人表面層下的有效深度中,達(dá)到不銹鋼表面改性的目的。目前該技術(shù)還處于研究階段,尚未實(shí)現(xiàn)工業(yè)化應(yīng)用。
不銹鋼表面照射處理不銹鋼表面照射處理用的能量源有激光、電子?xùn)c和紫外線等。利用激光束或電子束提供的大能量在短時(shí)間內(nèi)加熱和熔化大面積的表面區(qū)域,并獲得極高的冷卻速度,形成性能優(yōu)異的晶粒細(xì)化表面,從而達(dá)到表面改性的目的。紫外線照射對金屬表面改性的作用也屢見報(bào)道。但是照射技術(shù)在不銹鋼表面改性尚處于研發(fā)中。

不銹鋼高溫、耐蝕涂層處理不銹鋼在1000℃氧化損失十分嚴(yán)重,即使鉻含量達(dá)到26%,仍然不能形成保護(hù)層。為提高其使用溫度,必須采用涂層保護(hù)。典型工藝有高溫涂層、凝膠二封孔法陶瓷膜層、熱浸鍍稀土鋁合金抗高溫氧化層、離子鍍Ti(C,N)、表面納米Ti0 2晶膜、熱浸擴(kuò)散鋁鉻涂層、熱加工保護(hù)涂料、電沉積燒結(jié)抗高溫釔鉻氧化薄膜和加鐵稀土離子硫碳氮
共滲層等。
不銹鋼表面PVD、CVD成膜處理PVD、CVD成膜改性處理就是通過物理或化學(xué)氣相沉積,在不銹鋼表面形成具有耐蝕/耐磨等特性的陶瓷或金屬膜。CVD的典型例子是不銹鋼通過濺射成膜技術(shù)輝光放電沉積增強(qiáng)抗蝕能力。濺射的本質(zhì)特點(diǎn)是由輝光放電提供的高能離子或中性原子碰撞靶材的表面,將其能量傳遞給靶材;動(dòng)量的傳遞導(dǎo)致物料從靶材表面濺射出來,所以其核心是利用輝光放電來離解和激發(fā)物料,從而在基材表面形成氣相沉積薄膜。

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