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有關(guān)研究表明,靶的刻蝕及其深度與等離子體的濃度成正比關(guān)系,而等離子體濃度與空間中的磁場分布有著密切相連的關(guān)系。由此可見,靶的刻蝕主要受靶表面的等離子體的影響,等離子體由磁體產(chǎn)生的磁場分布決定,鍍膜機,提高靶材利用率的關(guān)鍵是調(diào)整磁場結(jié)構(gòu)。想了解更多離子真空鍍膜機|金屬表面鍍膜機|真空鍍膜機設(shè)備請聯(lián)系佛山市佛欣真空設(shè)備有限公司


該設(shè)備主要包括以下四個部分:
1)高精度卷繞系統(tǒng)
由放卷系統(tǒng)、鍍膜主輥、收卷系統(tǒng)及附加機構(gòu)構(gòu)成.主要作用是
保持在整個鍍膜過程中,pvd離子鍍膜機,保持張力恒定以使膜的拉伸一致,保證鍍膜
精度,并使生產(chǎn)后的電容膜卷能正常分切.
2)蒸發(fā)系統(tǒng)
由蒸發(fā)器、蒸發(fā)舟、送絲單元構(gòu)成.主要作用:產(chǎn)生鋅/鋁蒸氣,并
能控制蒸發(fā)的量,以保證電容膜的電阻率達(dá)到所需要求.想了解更多離子真空鍍膜機|金屬表面鍍膜機|真空鍍膜機設(shè)備請聯(lián)系佛山市佛欣真空設(shè)備有限公司

注冊資金:50萬
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