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1121 真空蒸發(fā)鍍膜
真空蒸發(fā)鍍膜裝置,主要包括真空室、真空系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)和
空測控設(shè)備。其核心在于蒸發(fā)系統(tǒng),主要是加熱源。
根據(jù)熱源的不同,餐具刀叉衛(wèi)浴鍍鈦金,真空蒸發(fā)鍍膜可以簡單分為以下幾種方法:
(1)電阻加熱法。讓大電流通過蒸發(fā)源,加熱待鍍材料,使其
發(fā)。對蒸發(fā)源材料的基本要求是:高熔點,低蒸氣壓,在蒸發(fā)溫
下不會與膜材發(fā)生化學(xué)反應(yīng)或互溶,具有一定的機械強度,且高
冷卻后脆性小等性質(zhì)。常用的蒸發(fā)源材料是鎢、鉬、鉭等高熔點
屬材料。按照蒸發(fā)源材料的不同,可制成絲狀、帶狀和板狀等,
圖1?1。

注冊資金:50萬
聯(lián)系人:武經(jīng)理
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