對于矩形磁控濺射靶來說,由于矩形平面磁控靶不像圓形磁控靶那樣具有中心對稱的性質(zhì),陰極靶內(nèi)的永磁體沿著靶長度方向排列成行,pvd離子鍍膜機,形成以中心線為對稱軸的兩個磁場。這兩個磁場在靶的長度方向上的分布比較均勻,但是在靶的寬度方向上是不均勻的(所以單純從刻蝕均勻性考慮,pvd真空鍍膜機,靶的寬度越小越好),鍍膜機,因此膜厚的分布在沿靶寬度和長度兩個方向并不相同。想了解更多離子真空鍍膜機|金屬表面鍍膜機|真空鍍膜機設(shè)備請聯(lián)系佛山市佛欣真空設(shè)備有限公司

濺射靶磁場的初始設(shè)計對靶材利用率、濺射速率、薄膜沉積速率和沉積效率及膜厚均勻性都有密切的影響。磁場設(shè)計的目標(biāo)在于得到比較高的靶材利用率(濺射區(qū)域的均勻和擴展)、較高的濺射速率和功率效率。想了解更多離子真空鍍膜機|金屬表面鍍膜機|真空鍍膜機設(shè)備請聯(lián)系佛山市佛欣真空設(shè)備有限公司

濺射靶的磁場設(shè)計,即磁體(永磁體或電磁體)的布置形式是十分復(fù)雜,同時也是十分靈活的。磁體之間的空間位置的變化,高低磁導(dǎo)率材料的選取與應(yīng)用以及磁體性能參數(shù)隨時間和外界條件的變化都使得磁體布置的設(shè)計始終具有完善的空間。想了解更多離子真空鍍膜機|金屬表面鍍膜機|真空鍍膜機設(shè)備請聯(lián)系佛山市佛欣真空設(shè)備有限公司
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