膜厚儀|鍍層膜厚儀|高精密膜厚儀

江蘇一六儀器     X射線熒光鍍層膜厚儀    穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng)、的解譜方法和EFP算法結(jié)合精準(zhǔn)定位及變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計，解決了各種大小異形、多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題。廣泛應(yīng)用于電子元器件、LED和照明、家用電器、通訊、汽車電子等制造領(lǐng)域。

膜厚儀

采用磁感應(yīng)原理時，X熒光膜厚儀，利用從測頭經(jīng)過非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通膜厚儀的大小，來測定覆層厚度。也可以測定與之對應(yīng)的磁阻的大小，來表示其覆層厚度。覆層越厚，則磁阻越大，磁通越小。利用磁感應(yīng)原理的測厚儀，原則上可以有導(dǎo)磁基體上的非導(dǎo)磁覆層厚度。一般要求基材導(dǎo)磁率在500以上。如果覆層材料也有磁性，高精密膜厚儀，則要求與基材的導(dǎo)磁率之差足夠大（如鋼上鍍鎳）。當(dāng)軟芯上繞著線圈的測頭放在被測樣本上時，儀器自動輸出測試電流或測試信號。早期的產(chǎn)品采用指針式表頭，膜厚儀，測量感應(yīng)電動勢的大小，儀器將該信號放大后來指示覆層厚度。

江蘇一六儀器   X射線電子元件膜厚儀

膜厚儀的影響因素有哪些

1、基體金屬厚度

每一種儀器都有一個基體金屬的臨界厚度。大于這個厚度，磁鋼膜厚儀，測量就不受基體金屬厚度的影響。

2、邊緣效應(yīng)

本儀器對試件表面形狀的陡變敏感。因此在靠近試件邊緣或內(nèi)轉(zhuǎn)角處進行測量是不可靠的。

3、曲率

試件的曲率對測量有影響。這種影響總是隨著曲率半徑的減少明顯地增大。因此，在彎曲試件的表面上測量是不可靠的。

4、試件的變形

測量頭會使軟覆蓋層試件變形，因此在這些試件上測出可靠的數(shù)據(jù)。

江蘇一六儀器   PCB板材 線路板大板件類X熒光光譜測厚儀

元素分析范圍：氯（CI）-鈾（U）

厚度分析范圍：各種元素及有機物

一次性同時分析：23層鍍層，24種元素

厚度最di檢出限：0.005um

最xiao測量面積:0.002m㎡

膜厚儀的特點

　　1、自動對焦作用。配備激光自動對焦作用，能夠準(zhǔn)確對焦，提高量測效率。

　　2、具有焦點距離切換作用，適用于有凹凸的機器部件與電路板的底部進行量測

　　3、 膜厚儀 采用檢量線法和FP法，兩個準(zhǔn)直器可自動切換，采用激光自動對焦，并配備有Z軸防沖撞傳感器，可防止在對焦時造成的損壞。

　　4、選用Mo靶材X射線管，量測更靈敏。