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江蘇友迪激光科技有限公司主力產(chǎn)品是數(shù)字化直接成像曝光機(jī)、物相沉積真空鍍膜設(shè)備、新能源自動(dòng)化設(shè)備與感光油墨,三大主力產(chǎn)品已進(jìn)入量產(chǎn),2018年將加大生產(chǎn)規(guī)模,增加市場占有率,歡迎新老客戶來電咨詢!
用于pcb工藝中的曝光工序,激光直接成像技術(shù),與傳統(tǒng)的底片接觸曝光方法有所不同
與傳統(tǒng)曝光的差別
1.傳統(tǒng)曝光是通過gong燈照射底片將圖像轉(zhuǎn)移至pcb上
2.LDI是用激光掃描的方法直接將圖像在pcb上成像,圖像更精細(xì)。

曝光
曝光是指將涂有感光層的PS版置于曬版機(jī)工作臺(tái)上,放好底片,通過曝光 獲得一種潛在或可見圖像的過程。曝光是一切光化學(xué)成像方法的基本過程與主要特征。曝光,曝光模式即計(jì)算機(jī)采用自然光源的模式,通常分為多種,直接成像,手動(dòng)曝光、AE鎖等模式。照片的好壞與曝光有關(guān),也就是說應(yīng)該通多少的光線使CCD能夠得到清晰的圖像。曝光量由通光時(shí)間(快門速度決定),直接成像技術(shù),通光面積(光圈大?。Q定。

LDI機(jī)
LDI曝光速度的瓶頸因素包括:數(shù)據(jù)的儲(chǔ)存與傳送、鐳射能量、切換速度、多邊型的制作速度、光阻的感光度、鐳射頭移動(dòng)速度、電路板傳送作業(yè)模式等。
以基本的影響因素而言,有三個(gè)獨(dú)立的因子會(huì)影響曝光速率:
1、能量密度 2、數(shù)據(jù)調(diào)變的速度 3、機(jī)械機(jī)構(gòu)速度
光阻必須要有一定量的能量送到表面才能產(chǎn)生適當(dāng)?shù)钠毓?,而高敏度的光阻需要的能量相對較低。因?yàn)榭偰芰康扔诠β食松蠒r(shí)間,高敏度的感光膜在同樣的功率下所需的曝光時(shí)間就比較短。而曝光系統(tǒng)的功能輸出,主要來自于系統(tǒng)的光源設(shè)計(jì),所以這是能量與時(shí)間的關(guān)系與解析度無關(guān)。


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