一六儀器(圖)-表面鍍層測(cè)厚儀-測(cè)厚儀

一六儀器 專業(yè)測(cè)厚儀 多道脈沖分析采集，EFP算法  X射線熒光鍍層測(cè)厚儀 

應(yīng)用于電子元器件，LED和照明，家用電器，通訊，汽車電子領(lǐng)域.EFP算法結(jié)合精準(zhǔn)定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題

一六 熒光測(cè)厚儀 十年以上研發(fā)團(tuán)隊(duì) 集研發(fā)生產(chǎn)銷售一體

元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U)   厚度分析范圍:各種元素及有機(jī)物

一次可同時(shí)分析:23層鍍層，24種元素 厚度檢出限:0.005um最xiao測(cè)量面積0.002m㎡  最深凹槽20mm以上

鍍層厚度分析儀使用注意事項(xiàng)

1．儀器供電電壓必須與儀器銘牌上的電壓一致。儀器必須使用三線插頭連到一個(gè)已接地的插座上。

2．鍍層厚度分析儀為精密儀器，建議配備高精度的穩(wěn)壓電源。計(jì)算機(jī)和儀器應(yīng)配備不間斷電源（UPS）。

3．鍍層厚度分析儀應(yīng)特別注意與存在電磁的場(chǎng)合隔離開(kāi)來(lái)。

4．儀器適合在10~40℃（50~104℉）的環(huán)境溫度下操作使用，在0~50℃（32~122℉）的溫度下存放。操作和存放的允許濕度范圍在0~65%之間（非冷凝）。在操作過(guò)程中，環(huán)境溫度和濕度應(yīng)保持恒定。

5．儀器曝曬在陽(yáng)光下時(shí)溫度極易超過(guò)50℃。所以請(qǐng)不要在這樣的環(huán)境下操作和存放儀器，表面鍍層測(cè)厚儀，以避免高溫對(duì)儀器造成損害。

6．為避免短路，測(cè)厚儀，嚴(yán)禁儀器與液體直接接觸。如果液體進(jìn)入儀器，請(qǐng)立刻關(guān)閉儀器并在重新使用前請(qǐng)技術(shù)人員整查儀器。

7．鍍層厚度分析儀不能用于酸性環(huán)境和易爆場(chǎng)合。

8．不要弄臟和刮擦元素片或調(diào)校標(biāo)準(zhǔn)片，否則會(huì)造成讀數(shù)錯(cuò)誤。

9．不要用任何機(jī)械或化學(xué)的方法元素片或調(diào)校標(biāo)準(zhǔn)片上的污物。如果必要的話，可以用一塊不起毛的布輕輕擦除臟物。

      江蘇一六儀器有限公司是一家專注于光譜分析儀器研發(fā)、生產(chǎn)、銷售的。公司位于上海和蘇州中間的昆山市城北高新區(qū)。我們專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)具備十年以上的從業(yè)經(jīng)驗(yàn)，經(jīng)與海內(nèi)外多名通力合作，研究開(kāi)發(fā)出一系列能量色散X熒光光譜儀。

測(cè)厚范圍可測(cè)定厚度范圍:取決于用戶的具體應(yīng)用。將列表可測(cè)定的厚度范圍-基本分析功能無(wú)標(biāo)樣檢量線測(cè)厚，可采用一點(diǎn)或多點(diǎn)標(biāo)準(zhǔn)樣品自動(dòng)進(jìn)行基本參數(shù)方法校正。根據(jù)客戶本身應(yīng)用提供必要的校正用標(biāo)準(zhǔn)樣品。樣品種類:鍍層、涂層、薄膜、液體(鍍液中的元素含量)可檢測(cè)元素范圍:Ti22–U92可同時(shí)測(cè)定5層/15種元素/共存元素校正組成分析時(shí)，可同時(shí)測(cè)定15種元素多達(dá)4個(gè)樣品的光譜同時(shí)顯示和比較元素光譜定性分析-調(diào)整和校正功能系統(tǒng)自動(dòng)調(diào)整和校正功能:校正X射線管、探測(cè)器和電子線路的變化對(duì)分析結(jié)果的影響，自動(dòng)系統(tǒng)漂移譜峰計(jì)數(shù)時(shí)，峰漂移自動(dòng)校正功能譜峰死時(shí)間自動(dòng)校正功能譜峰脈沖堆積自動(dòng)剔除功能標(biāo)準(zhǔn)樣品和實(shí)測(cè)樣品間，密度校正功能譜峰重疊剝離和峰形擬合計(jì)算-測(cè)量自動(dòng)化功能(要求XY程控機(jī)構(gòu))鼠標(biāo)控制測(cè)量模式:'PointandShoot'多點(diǎn)自動(dòng)測(cè)量模式:隨機(jī)模式、線性模式、梯度模式、掃描模式、和重復(fù)測(cè)量模式測(cè)量位置預(yù)覽功能激光對(duì)焦和自動(dòng)對(duì)焦功能-樣品臺(tái)程控功能(要求XY程控機(jī)構(gòu))設(shè)定測(cè)量點(diǎn)OneorTwoDatumn(reference)Pointsoneachfile測(cè)量位置預(yù)覽

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  X射線熒光光譜分析可以非破壞性同時(shí)完成組分和厚度測(cè)試，x熒光測(cè)厚儀，厚度的測(cè)量范圍視材料和元素而定，通常在1nm-50um之間。X射線熒光光譜法分析鍍層與其常規(guī)定量分析法相比較，被測(cè)元素的特征X射線熒光強(qiáng)度不僅與鍍層中待測(cè)元素和基材的組成有關(guān)，國(guó)產(chǎn)測(cè)厚儀，而且與厚度直接相關(guān)。能量色散X射線熒光光譜分析相對(duì)其他分析方法，具有無(wú)需對(duì)樣品進(jìn)行特別的化學(xué)處理、快速，方便，測(cè)量成本低等明顯優(yōu)勢(shì)，特別適合用于各類相關(guān)企業(yè)作為過(guò)程控制和檢測(cè)使用。是目前應(yīng)用最為廣泛，具有速度快、無(wú)損化以及可實(shí)現(xiàn)多鍍層同時(shí)分析等特點(diǎn)。