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防水納米液真空鍍膜技術(shù)的特點,真空鍍膜技術(shù)主要有真空蒸發(fā)鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學(xué)氣相沉積等多種方法。除化學(xué)氣相沉積法外,其他幾種方法均具有以下的共同特點:
(1)各種鍍膜技術(shù)都需要一個特定的真空環(huán)境,制膜材料在加熱蒸發(fā)或濺射過程中所形成蒸氣分子的運動,不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾,并大氣中雜質(zhì)的不良影響。

對于濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,并且終沉積在基片表面,納米鍍膜,經(jīng)歷成膜過程,終形成薄膜。
濺射鍍膜又分為很多種,總體看,鏡頭納米鍍膜,與蒸發(fā)鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。
濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld,組分均勻性容易保持,而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因為是脈沖濺射),液態(tài)納米鍍膜,晶向(外沿)生長的控制也比較一般。以pld為例,因素主要有:靶材與基片的晶格匹配程度、鍍膜氛圍(低壓氣體氛圍)、基片溫度、激光器功率、脈沖頻率、濺射時間。
晶格有序度的均勻性:
這決定了薄膜是單晶,多晶,非晶,是真空鍍膜技術(shù)中的熱點問題,具體見下。
主要分類有兩個大種類:
蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜,具體則包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,溶膠凝膠法等等
一、對于蒸發(fā)鍍膜:
一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來,并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長)形成薄膜。
厚度均勻性主要取決于:
1、基片材料與靶材的晶格匹配程度
2、基片表面溫度
3、蒸發(fā)功率,速率
4、真空度
5、鍍膜時間,厚度大小。
組分均勻性:
蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證,具體可以調(diào)控的因素同上,家具納米鍍膜,但是由于原理所限,對于非單一組分鍍膜,蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。
晶向均勻性:
1、晶格匹配度
2、基片溫度
3、蒸發(fā)速率


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