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提高坩堝自身質(zhì)量是十分必要的,首先必須提高原材料的質(zhì)量,成型后的坩堝在燒成和熱處理的過(guò)程中,必須嚴(yán)格保持氧化氣氛,避免還原性火焰,燒成時(shí)間和溫度必須要嚴(yán)格控制,坩堝的氣孔率要低于20%,坩堝燒成后要小心的搬運(yùn)和放入坩堝窯中,熔化玻璃之前最.好對(duì)坩堝進(jìn)行玻璃化處理,以保護(hù)玻璃經(jīng)受劇烈的溫度變化,而且坩堝結(jié)構(gòu)致密化與窯爐氣氛隔開(kāi)。坩堝在使用的過(guò)程中,要嚴(yán)格執(zhí)行操作制度和操作方法。
坩堝的質(zhì)量對(duì)于實(shí)際的操作來(lái)說(shuō),具有一定的影響。質(zhì)量好的坩堝可以使生產(chǎn)出的產(chǎn)品質(zhì)量更加。選擇優(yōu)質(zhì)的坩堝,就選魯鑫坩堝廠!







目前,國(guó)內(nèi)石英坩堝生產(chǎn)企業(yè)生產(chǎn)中使用的生產(chǎn)設(shè)備及工藝技術(shù)全部源于上世紀(jì)70年代初錦州155廠從日本引進(jìn)的生產(chǎn)設(shè)備及工藝技術(shù),該項(xiàng)技術(shù)設(shè)備自動(dòng)化程度不高,整個(gè)生產(chǎn)過(guò)程中更多的依靠人工來(lái)實(shí)現(xiàn),現(xiàn)在國(guó)內(nèi)新上的坩堝生產(chǎn)設(shè)備都已經(jīng)往自動(dòng)化發(fā)展。坩堝的發(fā)展還是很快的。
石英坩堝可在1450度以下使用,分透明和不透明兩種。用電弧法制的半透明石英坩堝是拉制大直徑單晶硅,發(fā)展大規(guī)模集成電路必不可少的基礎(chǔ)材料。當(dāng)今,半導(dǎo)體工業(yè)發(fā)達(dá)國(guó)家已用此坩堝取代了小的透明石英坩堝。他具有高純度、耐溫性強(qiáng)、尺寸大精度高、保溫性好、節(jié)約能源、質(zhì)量穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn)。


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