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眾所周知,在某些材料的表面上,只要鍍上一層薄膜,就能使材料具有許多新的、良好的物理和化學(xué)性能。20世紀(jì)70年代,金屬真空鍍膜,在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學(xué)鍍法。前者是通過通電,使電解液電解,被電解的離子鍍到作為另一個(gè)電極的基體表面上,因此這種鍍膜的條件,基體必須是電的良導(dǎo)體,而且薄膜厚度也難以控制。后者是采用化學(xué)還原法,必須把膜材配制成溶液,并能迅速參加還原反應(yīng),這種鍍膜方法不僅薄膜的結(jié)合強(qiáng)度差,而且鍍膜既不均勻也不易控制,同時(shí)還會(huì)產(chǎn)生大量的廢液,造成嚴(yán)重的污染。因此,這兩種被人們稱之為濕式鍍膜法的鍍膜工藝受到了很大的限制。

真空PVD鍍膜基本步驟
前處理工藝褪膜、噴砂、拋光、鈍化、清洗、裝夾 鍍膜工藝抽真空、加熱烘烤、漏率測試、轟擊清洗、鍍膜、冷卻出爐 后處理工藝
清洗:確保鍍膜前產(chǎn)品表面的清潔,江門真空鍍膜,越新鮮的表面,越能保證鍍膜質(zhì)量;
抽真空:將真空室內(nèi)的殘余氣體抽走加熱烘烤:爐體和工件同時(shí)加熱,高溫真空鍍膜,加速殘余氣體的釋放壓升率測試:測試爐體的漏氣率和放氣率轟擊清洗:去除工件表面的雜志,露出新鮮表面鍍膜:沉積膜層冷卻:避免工件氧化變色

實(shí)踐證明,電子束鋼帶真空鍍膜具有很多優(yōu)點(diǎn):
(1)可選擇的鍍膜材料多而不受材料熔點(diǎn)限制。能量密度很高的電子束可以使鍍膜材在很短的時(shí)間達(dá)到3000℃~6000℃。因此,除了熱鍍鋅中常見的鍍鋅、鋁、錫之外,鏡片真空鍍膜,幾乎所有的金屬材料都可以蒸鍍,還可鍍種類眾多的金屬氮化膜,金屬氧化膜和金屬炭化物及各種復(fù)合膜。這為發(fā)展新型帶鋼材料提供了很大的自由度。
(2)鍍膜材料利用率高,環(huán)境污染小。真空鍍膜屬干式鍍膜,沒有有害液體、氣體的產(chǎn)生。


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