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公司產(chǎn)品包括石英掩膜版,蘇打掩膜版,以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖,定制版圖,蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)!
光罩(英文:Reticle, Mask),在制作IC的過程中,利用光蝕刻技術(shù),在半導(dǎo)體上形成圖型,為將圖型於晶圓上,必須透過光罩作用的原理,類似于沖洗照片時(shí),利用底片將影像至相片上。





公司產(chǎn)品包括石英掩膜版,蘇打掩膜版,以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖,定制版圖,蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)!
掩膜版:通俗點(diǎn)理解,相當(dāng)于過去用膠片沖洗照片時(shí)的底片。底片如果精度不夠,是洗不出來照片的。光刻機(jī)施工前,光罩,要根據(jù)設(shè)計(jì)好的芯片電路圖制作掩膜板。掩膜板材質(zhì)是石英玻璃,玻璃上有金屬鉻和感光膠。通過激光在金屬鉻上繪制電路圖。精度要求非常高。
透鏡:用透鏡的光學(xué)原理,將掩膜版上的電路圖按比例縮小,再用光源映射的硅片上。光在多次投射中會產(chǎn)生光學(xué)誤差。要控制這個(gè)誤差。精度要求很高。
就是測量臺移動的控制器,也是納米級精度,要求超高。
光掩膜上游主要包括圖形設(shè)計(jì)、光掩膜設(shè)備及材料行業(yè),下游主要包括IC制造、IC封裝、平面顯示和印制線路板等行業(yè),應(yīng)用于主流消費(fèi)電子 (手機(jī)、平板、可穿戴設(shè)備)、筆記本電腦、車載電子、網(wǎng)絡(luò)通信、家用電器、LED 照明、物聯(lián)網(wǎng)、電子等終端產(chǎn)品。
目前范圍內(nèi)光刻掩膜版主要以專業(yè)生產(chǎn)商為主。由于下游應(yīng)用領(lǐng)域廠商自建光刻掩膜版生產(chǎn)線的投入產(chǎn)出比很低,且光刻掩膜版行業(yè)具有一定的技術(shù)壁壘,所以光刻掩膜版都是由專業(yè)的生產(chǎn)商進(jìn)行生產(chǎn)。

注冊資金:100萬元整
聯(lián)系人:馬經(jīng)理
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