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真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技術(shù),真空鍍膜對(duì)于蒸發(fā)源與被鍍制品和薄膜質(zhì)量要求很高的場(chǎng)合,則要求壓力更低( 10-5Pa )。 鍍層厚度0.04-0.1um,太薄,電路板防水鍍膜廠,反射率低;太厚,附著力差,易脫落。厚度0.04時(shí)反射率為90%。




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