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鍍鋁膜的鍍鋁層發(fā)生遷移現(xiàn)象的原因及解決方法
一.鍍鋁膜的鍍鋁層發(fā)生遷移現(xiàn)象的原因:
1.所選用的膠粘劑不合適。
2.鍍鋁層與基膜之間的結合牢固度比較差。
3.張力控制不當,影響到鍍鋁膜鍍鋁層的附著力,進而產(chǎn)生鍍鋁層遷移。
二.相對應的解決辦法:
1.選擇合適的鍍鋁膜膠粘劑。
2.選擇質量高的鍍鋁膜,例如廣盈牌鍍鋁膜。
3.對張力進行適當?shù)脑O置調整,一般來說,張力應大一些,鐳射紙性能特點,防止鍍鋁膜發(fā)生較大的彈性形變。









鐳射紙是如今一種新開發(fā)出來的高科技環(huán)保材料,現(xiàn)在,主要有BOPP鐳射鍍鋁膜、搬運膜、通明高反膜。PET鐳射鍍鋁膜、復合膜、燙印膜等。這都是制作成鐳射防偽標簽的原料。
鐳射紙是一種激光全息圖畫的載體,通常會經(jīng)過很特別的生產(chǎn)工藝,可以生產(chǎn)出復合型的鐳射卡紙的,還有搬運型的鐳射卡紙等等。還有十分高的安全防偽性,也有艷麗的顏色,動感的幻覺作用,因而,它就被廣泛的運用到包裝、打印、裝修、煙酒、醫(yī)l藥等范疇傍邊。而這種鐳射防偽標簽的品種是十分多的,不一樣方式的防偽標簽,所起到的作用是不一樣的。

真空蒸鍍原理
將被鍍薄膜基材(筒狀〕裝在真空蒸鍍機中,用真空泵抽真空,使鍍膜中的真空度達到1.3×10-2~1.3×10-3Pa,鐳射紙印刷,加熱坩鍋使高純度的鋁絲在1200℃~1400℃的溫度下溶化并蒸發(fā)成氣態(tài)鋁。氣態(tài)鋁微粒在移動的薄膜基材表面沉積、經(jīng)冷卻還原即形成一層連續(xù)而光亮的金屬鋁層。通過控制金屬鋁的蒸發(fā)速度、薄膜基材的移動速度以及鍍膜室的真空度等來控制鍍鋁層的厚度,一般鍍鋁層厚度在25~500nm,鍍鋁薄膜的寬度為800mm~2000mm。



蒸鍍方法:在基材表面蒸鍍鋁的方法有直接蒸鍍法和轉移法兩種。
(1)直接蒸鍍法。是被鎮(zhèn)基材直接通過真空鍍膜機,將金屬鋁蒸鍍在基材表面而形成鍍鋁薄膜。直接蒸鍍法對基材的要求較高,尤其是要形成表面光亮的金屬膜,鐳射紙,必須要求基材具有較好的表面平滑度。如果紙張的表面較粗糙,要采用直接蒸鍍法,在鍍鋁前需行表面涂布。另外,鐳射紙訂做廠家,在蒸鍍過程中基材的揮發(fā)物要少。因此直接蒸鍍法對基材有較大的局限性,它主要適合于蒸鍍塑料薄膜,也可用于紙張的蒸鍍,但紙張的質量要求高,并對紙的定量有一定的限度。
(2)轉移法。是借助載體膜(真空鍍鋁膜)將金屬鋁層轉移到基材的表面而形成鍍鋁薄膜。轉移法是在直接蒸鍍法的基礎上發(fā)展起來的新工藝,它克服了直接蒸鍍法對基材要求的局限性,尤其適合于在各種紙及紙板上進行鍍鋁,也可用于塑料薄膜的鍍鋁。國外已將轉移法應用到布、纖維、皮革等基材的鍍鋁產(chǎn)品上。我國主要采用轉移法生產(chǎn)鍍鋁紙。[2]
鍍鋁薄膜生產(chǎn)工藝流程:
基材放卷→抽真空→加熱蒸發(fā)舟→送鋁絲→蒸鍍→冷卻→測厚→展平→收卷
