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多弧離子PVD鍍膜設備
腔體結(jié)構(gòu): 立式前開門,臥式前開門,后置真空獲得系統(tǒng)
材質(zhì)用料: 腔體采用SUS304不銹鋼材質(zhì)
離子弧源: 依據(jù)設備大小不同配備多套弧電源系統(tǒng)
偏壓電源: 配備大功率單級脈沖偏壓電源
多弧靶材: 標配多套鈦靶或不銹鋼靶材
轉(zhuǎn)動系統(tǒng): 變頻調(diào)速,公自轉(zhuǎn)結(jié)合,真空鍍膜設備,可采用上傳動或下傳動方式
真空系統(tǒng)(裝飾鍍膜設備Decorative coating):擴散泵(可選分子泵)+羅茨泵+機械泵+維持泵+深冷系統(tǒng)(可選)

氣相沉積是一種在基體表面形成功能膜層的技術(shù),它是利用物質(zhì)在氣相中產(chǎn)生的物理或(及)化學反應而在產(chǎn)品表面沉積單層或多層的、單質(zhì)或化合物的膜層,從而使產(chǎn)品表面獲得所需的各種優(yōu)異性能。
氣相沉積作為一種表面鍍膜方法,金屬配件真空鍍膜設備,其基本步驟有需鍍物料氣相化->輸運->沉積。它的主要特點在于不管原來需鍍物料是固體、液體或氣體,在輸運時都要轉(zhuǎn)化成氣相形態(tài)進行遷移,手機真空鍍膜設備,終到達工件表面沉積凝聚成固相薄膜。
濺射是物相沉積技術(shù)的另一種方式,環(huán)保真空鍍膜設備,有人要問了濺射工藝是怎么實現(xiàn)的呢?
濺射的過程是由離子轟擊靶材表面,使靶材材料被轟擊出來的技術(shù)。整個過程是在真空腔體中完成的。濺射開始時將氣充入真空腔體中形成低壓氣氛圍,再通過使用高電壓,產(chǎn)生輝光放電,加速離子到靶材表面。離子將靶材材料從表面轟擊(濺射)出來,在靶材前面的被涂層工件上沉積下來,這整個過程就好像是在打臺球。
