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電子束蒸發(fā)鍍膜
利用高速電子束加熱使材料汽化蒸發(fā),在基片表面凝結(jié)成膜的技術(shù)。電子束熱源的能量密度可達(dá)104-109w/cm2,可達(dá)到3000℃以上,專業(yè)不銹鋼鍍鈦報(bào)價(jià),可蒸發(fā)高熔點(diǎn)的金屬或介電材料如鎢、鉬、鍺、SiO2、AL2O3等。
電子束加熱的蒸鍍源有直槍型電子槍和e型電子槍兩種(也有環(huán)行),電子束自源發(fā)出,用磁場線圈使電子束聚焦和偏轉(zhuǎn),對膜料進(jìn)行轟擊和加熱。
電弧蒸發(fā)鍍膜
在高真空下通過兩導(dǎo)電材料制成的電極之間產(chǎn)生電弧放電,利用電弧高溫使電極材料蒸發(fā)。電弧源的形式有交流電弧放電、直流電弧放電和電子轟擊電弧放電等形式。
優(yōu)點(diǎn)薄膜純度高造價(jià)低適用于具有一定導(dǎo)電性的難熔金屬、石墨等
缺點(diǎn)
會(huì)飛濺出微米級(jí)的靶材料顆粒,影響薄膜質(zhì)量
利用高頻電磁場感應(yīng)加熱,使材料汽化蒸發(fā)在基片表面凝結(jié)成膜的技術(shù)。

注冊資金:100萬
聯(lián)系人:高經(jīng)理
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移動(dòng)手機(jī):19837071306
企業(yè)地址:河南 梁園區(qū)