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高純氣體的輸送管路系統(tǒng)
隨著微電子工業(yè)的發(fā)展,超大規(guī)模集成電路制造的硅片尺寸越做越大,高純供氣系統(tǒng)價(jià)格,要求半導(dǎo)體制造工藝中的氣體品質(zhì)相應(yīng)越來越高,對氣體中雜質(zhì)和露1點(diǎn)要求極為嚴(yán)格,需要達(dá)到ppb、ppt級,塵埃粒徑求控制小于0.1~0.05m的微粒,因此對高純氣體的輸送管路系統(tǒng)提出了非常高的要求 。
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試驗(yàn)室供氣現(xiàn)狀
目前我們可以用采用高壓氣瓶、液體杜瓦瓶、集中供氣系統(tǒng)完成上述工作。同時(shí),當(dāng)?shù)叵酪?guī)范建議甚至要求將主要的氣體源如氣瓶、杜瓦瓶和液體儲(chǔ)槽放置在工作區(qū)外的指1定區(qū)域,然后將氣體通過管道系統(tǒng)輸送至試驗(yàn)室內(nèi)。
但是考慮安全和效率因素,不考慮經(jīng)濟(jì)性因素,集中供氣系統(tǒng)是比較優(yōu)1秀的方式。并成為當(dāng)今試驗(yàn)室設(shè)備使用高純氣體的可靠連續(xù)的供應(yīng)源,氣體通過管道系統(tǒng)輸送至試驗(yàn)室內(nèi),并可通過安裝在工作臺(tái)上的使用點(diǎn)二級減壓器方便地調(diào)節(jié)壓力和流量。
國內(nèi)比較老的試驗(yàn)室在使用氣體的時(shí)候大多是將氣瓶放在用氣點(diǎn)的旁邊,然后在氣瓶出口處安裝一個(gè)減壓器,然后直接通過紫銅管或四氟軟管連接到儀器上,如果一個(gè)試驗(yàn)室里有多個(gè)使用設(shè)備時(shí),就會(huì)有很多氣瓶,同時(shí)有很多雜亂的管路,同時(shí)這些氣體不乏有毒氣體、強(qiáng)腐蝕氣體,以及氣瓶出口高壓等因素,使得這種方式在現(xiàn)實(shí)使用過程中是充滿危險(xiǎn)性的。
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實(shí)驗(yàn)室氣體的危險(xiǎn)性
1.有部分氣體具有毒、強(qiáng)腐蝕等特性,其一旦泄漏,就可能會(huì)對工作人員及儀器設(shè)備造成傷害;
2.多種氣體在同一個(gè)環(huán)境下使用,如果有兩種會(huì)發(fā)生燃燒或爆1炸等強(qiáng)烈化學(xué)反應(yīng)的氣體同時(shí)泄漏,就可能對工作人員以及儀器設(shè)備造成傷害;
3.多數(shù)氣瓶出口壓力1高可達(dá)15MPa,即150公斤/cm2,高純供氣系統(tǒng)生產(chǎn)廠家,如果發(fā)生氣瓶口減壓裝置失靈,高純供氣系統(tǒng)多少錢,就有可能將一些部件激1射出去,其能量對人體或設(shè)備都具有致命性的傷害。
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