赫爾槽的陰極板與陽極板互不平行,陰極的離陽極較近的一端稱近端;另一端離陽極遠,稱遠端。由于電流從陽極流到陰極的近端和遠端的路徑不同,不同路徑槽液的電阻也不同,因此陰極上的電流密度從遠端到近端逐漸增大,250mL的赫爾槽近端的電流密度是遠端的50倍。因而一次試驗便能觀察到相當寬范圍的電流密度下所獲得的鍍層。
有人經(jīng)過酸性鍍銅、酸性鍍鎳、橄化鍍鋅、化鍍鎬四種鍍液在不同電流強度下進行電鍍試驗并取它們的平均值,得到陰極上各點的電流密度與該點離近端距離關(guān)系的經(jīng)驗公式:
1000mL赫爾槽 Jk=I*3.26一3.05* logX)
267mL赫爾槽 Jk=I*(5.10一5.24* logX)
式中 Jk—陰極上某點的電流密度值〔A/dm2〕;
I--試驗時的電流強度(A);
X--陰極上該點距近端的距離(cm).必須注意,靠近陰極兩端各點計算所得的電流密度是不正確的。X=0.635--8.255cm范圍內(nèi),計算值有參考價值.
267mL赫爾槽中放入 250mL鍍液做試臉時,陰極上各點的電流密度應是
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濟南市霍爾槽
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