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真空鍍膜技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域
在平板顯示器中
所有各類(lèi)平板顯示器都要用到各種類(lèi)型的薄膜,真空鍍膜系統(tǒng)廠家,而且,幾乎所有類(lèi)型的平板顯示器件都需要使用ITO膜,以滿(mǎn)足透明電器的要求??梢院敛豢鋸埖恼f(shuō),沒(méi)有薄膜技術(shù),就沒(méi)有平板顯示器件。
在太陽(yáng)能利用方面
當(dāng)需要有效地利用太陽(yáng)熱能時(shí),就要考慮采用對(duì)太陽(yáng)光線(xiàn)吸收較多、而對(duì)熱輻射等所引起的損耗較小的吸收面。太陽(yáng)光譜的峰值大約在波長(zhǎng)為2-20μm之間的紅外波段。由于太陽(yáng)輻射與熱輻射光譜在波段上有差異,因此,為了有效地利用太陽(yáng)熱能,就必須考慮采用具有波長(zhǎng)選擇特性的吸收面。
理想的選擇吸收面,是太陽(yáng)輻射光譜的波段(可見(jiàn)光波段)吸收率(α)為1,在熱輻射波段(紅外波段)輻射率(ε)為0。
在防偽技術(shù)中
防偽膜種類(lèi)很多,從使用方法可分為反射式和透射式;從膜系附著方式可以分為直接鍍膜式、間接鍍膜式或間接鍍膜剪貼式。
在飛機(jī)防護(hù)涂層方面
飛機(jī)的鈦合金緊固件,原來(lái)采用電鍍方法鍍*。但在鍍*中含有氫,所以在飛行過(guò)程中,受到大氣、海水的腐蝕,鍍層上容易產(chǎn)生“*脆”,甚至引起“空難”。
1964年,采用離子鍍方法在鈦合金緊固件上鍍鋁,解決了飛機(jī)零件的“*脆”問(wèn)題。在離子鍍技術(shù)中,由于給工件施加負(fù)偏壓,可以形成“偽擴(kuò)散層”、細(xì)化膜層組織,因此,可以顯著提高膜層的耐腐蝕性能。
在光學(xué)儀器中
人們熟悉的光學(xué)儀器有望遠(yuǎn)鏡、顯微鏡、照相機(jī)、測(cè)距儀,以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等,它們都離不開(kāi)鍍膜技術(shù),鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。
在信息存儲(chǔ)領(lǐng)域中
薄膜材料作為信息記錄于存儲(chǔ)介質(zhì),有其的優(yōu)勢(shì):
由于薄膜很薄,可以忽略渦流損耗;磁化反轉(zhuǎn)極為迅速;與膜面平行的雙穩(wěn)態(tài)狀態(tài)容易保持等。
為了更精密地記錄與存儲(chǔ)信息,必然要采用鍍膜技術(shù)。
在傳感器方面
在傳感器中,多采用那些電氣性質(zhì)相對(duì)于物理量、化學(xué)量及其變化來(lái)說(shuō),極為敏感的半導(dǎo)體材料。此外,其中,大多數(shù)利用的是半導(dǎo)體的表面、界面的性質(zhì),需要盡量增大其面積,且能工業(yè)化、格制作,因此,采用薄膜的情況很多。
在集成電路制造中
晶體管路中的保護(hù)層(SiO2、Si3N4)、電極管線(xiàn)等,多是采用CVD技術(shù)、PVCD技術(shù)、真空蒸發(fā)金屬技術(shù)、磁控濺射技術(shù)和射頻濺射技術(shù)??梢?jiàn),氣相沉積是制備集成電路的核心技術(shù)之一。
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CT系列鍍膜機(jī)
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2、整機(jī)采用柜式結(jié)構(gòu),密封性能好,防塵防水,安全。
3、磁控、熱蒸發(fā)多種鍍膜方式可選
4、可集成手套箱系統(tǒng)
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ST系列鍍膜機(jī)
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2、極限真空度高,可達(dá)7×10-5Pa,可保證更高的鍍膜純凈度,提高鍍膜質(zhì)量。
3、從大氣到工作背景真空(7×10-4Pa)時(shí)間短,30分鐘左右(充干燥氮?dú)猓?系統(tǒng)停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后真空度:≤8Pa。
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