uv光催化廢氣處理設(shè)備-uv光催化-蘇州諾凈源環(huán)保(查看)

RTO設(shè)備安裝現(xiàn)場

　　作為末端有機(jī)廢氣控制技術(shù)——蓄熱式廢氣焚燒爐(RTO設(shè)備)，在石油化工、精細(xì)化工、汽車涂裝等行業(yè)得到了廣泛應(yīng)用，為醫(yī)i藥、化工等間歇生產(chǎn)企業(yè)的有機(jī)廢氣凈化治理開啟了新的篇章，現(xiàn)也衍生出了蓄熱式催化氧化爐(RCO設(shè)備)。

　　RTO設(shè)備主要由RTO氧化室、燃燒器、蓄熱室、內(nèi)保溫體系、助燃體系、切換風(fēng)閥、壓縮空氣系統(tǒng)、排氣系統(tǒng)、換熱器等組成。有機(jī)廢氣通過RTO設(shè)備氧化室高溫區(qū)使廢氣中的VOCs組分氧化分解成無害的小分子CO2和H2O，其熱效率利用率在90%以上，是一種用于處理中低濃度揮發(fā)性有機(jī)廢氣的節(jié)能型環(huán)保系統(tǒng)裝置。

　　醫(yī)i藥行業(yè)屬于精細(xì)化工行業(yè)，特點(diǎn)是生產(chǎn)品種多，生產(chǎn)工藝復(fù)雜，而且需要采用有機(jī)i進(jìn)行分離提取，因此廢物成分復(fù)雜，污染危害嚴(yán)重。醫(yī)i藥廢氣中除了含有粉塵顆粒物、CO2、硫化物、氮氧化物、有機(jī)i、無機(jī)酸堿外，還可能含有有機(jī)酸堿、有機(jī)原料，如烷烴、鹵代烴、芳香烴、甚至更為復(fù)雜的有機(jī)合成物質(zhì)。

有機(jī)廢氣處理主要采取一下幾種方式：

　　1. 廢氣處理隔離法：通過特種過濾材料，uv光催化裝置，置換廢氣外排過程，經(jīng)機(jī)械隔離，從而達(dá)到廢氣治理效果。

　　2. 廢氣處理燃燒法：利用加熱高溫的方法，uv光催化，將有機(jī)廢氣直接燃燒處理，以達(dá)到廢氣凈化的目的。

　　3. 廢氣處理吸收法：利用吸收液與廢氣相互接觸，使廢氣中的有害物質(zhì)溶入吸收液中，從而使廢氣得以凈化。吸收液另行處理。

　　4. 廢氣處理冷凝法：通過冷凝降溫，uv光催化廢氣處理設(shè)備，當(dāng)溫度低于有害物質(zhì)的凝結(jié)點(diǎn)時(shí)，氣態(tài)的有害物質(zhì)轉(zhuǎn)化為液態(tài)，從空氣中分離出來，從而凈化。

　　5. 活性炭吸附裝置吸附法：利用多孔性的活性炭、硅澡土、無煙煤等分子級的大表面剩余能，將有機(jī)氣體分子吸附到其表面，從而凈化。

UV廢氣處理是通過紫外線光照技術(shù)將廢氣中的氧氣分解為臭氧，利用臭氧與廢氣進(jìn)行反應(yīng)，將氣體物質(zhì)進(jìn)行降解，再利用高能的UV光束裂解的分子間，達(dá)到的目的。還降解技術(shù)成本低廉，運(yùn)行穩(wěn)定可靠，無需專人看護(hù)，但在廢氣處理的速度上較慢，相比低溫等離子技術(shù)效率偏低。

　　低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài)，當(dāng)外加電壓達(dá)到氣體的放電電壓時(shí)，氣體被迅速擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個(gè)體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以稱為低溫等離子體。 低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到降解污染物的目的。(注：低溫等離子體相對于高溫等離子體而言，屬于常溫運(yùn)行。) 等離子體反應(yīng)區(qū)富含極高的物質(zhì)，如高能電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子等，廢氣中的污染物質(zhì)可與這些具有較高能量的物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)，使污染物質(zhì)在極短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到講解污染物的目的。與傳統(tǒng)的電暈放電形式產(chǎn)生的低溫等離子技術(shù)相比較，等離子體技術(shù)放電密度是電暈放電的1500倍，這就是傳統(tǒng)低溫等離子體技術(shù)治理工業(yè)廢氣99%以失敗而告終的原因。