硅膠納米鍍膜設(shè)備-納米鍍膜設(shè)備-拉奇納米鍍膜

多弧離子PVD鍍膜設(shè)備　　

腔體結(jié)構(gòu)： ?立式前開門，臥式前開門，后置真空獲得系統(tǒng)　　

材質(zhì)用料： ?腔體采用SUS304不銹鋼材質(zhì)　　

離子弧源： ?依據(jù)設(shè)備大小不同配備多套弧電源系統(tǒng)　　

偏壓電源： ?配備大功率單級脈沖偏壓電源　　

多弧靶材： ?標(biāo)配多套鈦靶或不銹鋼靶材　　

轉(zhuǎn)動系統(tǒng)： 變頻調(diào)速，公自轉(zhuǎn)結(jié)合，可采用上傳動或下傳動方式　　

真空系統(tǒng)（裝飾鍍膜設(shè)備Decorative coating）：擴散泵（可選分子泵）+羅茨泵+機械泵+維持泵+深冷系統(tǒng)（可選）

離子鍍，是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)離子化，在氣體離子或蒸發(fā)物質(zhì)離子轟擊作用下，把蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)物蒸鍍在工件上。離子鍍把輝光放電、等離子技術(shù)與真空蒸鍍技術(shù)結(jié)合在一起，不僅明顯地提高了鍍層的各種性能，而且，大大擴充了鍍膜技術(shù)的應(yīng)用范圍。

離子鍍除兼有真空濺射的優(yōu)點外，還具有膜層的附著力強、繞射性好、可鍍材料廣泛等優(yōu)點。例如，金屬配件納米鍍膜設(shè)備，利用離子鍍技術(shù)可以在金屬、塑料、陶瓷、玻璃、紙張等非金屬材料上，涂覆具有不同性能的單一鍍層、合金鍍層、化合物鍍層及各種復(fù)合鍍層，而且沉積速度快（可達(dá)755m/min），鍍前清洗工序簡單，金屬納米鍍膜設(shè)備，對環(huán)境無污染，因此，近年來在國內(nèi)外得到了迅速的發(fā)展。

離化PVD技術(shù)通過將成膜材料高度電離化形成膜材料離子，從而增加膜材料離子的沉積動能，并使之在高化學(xué)活性狀態(tài)下沉積薄膜的技術(shù)，包括離子鍍、離子束沉積和離子束輔助沉積三類。

離化PVD過程大多是蒸發(fā)/濺射（氣相物質(zhì)激發(fā)）與等離子體離化過程（賦能、）的交叉結(jié)合。

蒸發(fā)鍍膜是依靠源材料的晶格振動能克服逸出功，納米鍍膜設(shè)備，從而形成沉積粒子的熱發(fā)射，即：外加能量（電阻/電子束/激光/電弧/射頻）賦予材料較高的晶格振動能，使其克服固有的逸出功逸出粒子。而濺射是依靠高能離子輸入動能，借助源材料中粒子間的彈性碰撞，致使更高動能粒子逸出。離化PVD 是以其它手段激發(fā)沉積物質(zhì)粒子，然后使之與高度電離的等離子體交互作用（類似 PECVD），促使沉積粒子離化，使之既可被電場加速而獲得更高動能，同時在低溫狀態(tài)下具有高化學(xué)活性。