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擴散硅技術(shù)是隨著上個世紀后期半導體微機電技術(shù)和其它材料及輔助

擴散硅式擴散硅技術(shù)是隨著上個世紀后期半導體微機電技術(shù)和其它材料及輔助生產(chǎn)技術(shù)的日益成熟漸漸發(fā)展起來的一種傳感器技術(shù)。同樣有良好的可批量生產(chǎn)性,但制造成本相對較高,天津壓力傳感器現(xiàn)貨,設(shè)備投入相對較大,工藝流程相對較長。測量壓力范圍10Kpa-700Bar.國內(nèi)主要制造商寶雞麥克、恒通、南京高華等。目前較少應(yīng)用于汽車行業(yè),多用于工業(yè)領(lǐng)域。但近年美國精量電子已開發(fā)出應(yīng)用與汽車領(lǐng)域的低成本擴散硅充油壓力變送器。


高溫微型壓力傳感器基本組成及制作工藝

高溫微型壓力傳感器基本組成及制作工藝硅電容式壓力傳感器的敏感元件是半導體薄膜,它可以由單晶硅、多晶硅等利用半導體工藝制作而成。典型的電容式傳感器由上下電極、絕緣體和襯底構(gòu)成。當薄膜受壓力作用時,薄膜會發(fā)生一定的變形,因此,上下電極之間的距離發(fā)生一定的變化,從而使電容發(fā)生變化。但電容式壓力傳感器的電容與上下電極之間的距離的關(guān)系是非線性關(guān)系,因此,要用具有補償功能的測量電路對輸出電容進行非線性補償。由于高溫壓力傳感器工作在高溫環(huán)境下,補償電路會受到環(huán)境溫度的影響,從而產(chǎn)生較大的誤差?;谀P妥R別的高溫壓力傳感器,正是為了避免補償電路在高溫環(huán)境下工作產(chǎn)生較大誤差而設(shè)計的,其設(shè)計方案是把傳感器件與放大電路分離,通過模型識別來得到所測環(huán)境的壓力。高溫工作區(qū)溫度可達350℃。傳感器件由鉑電阻和電容式壓力傳感器構(gòu)成。高溫壓力傳感器由硅膜片、襯底、下電極和絕緣層構(gòu)成。其中下電極位于厚支撐的襯底上。電極上蒸鍍一層絕緣層。硅膜片則是利用各向異性腐蝕技術(shù),在一片硅片上從正反面腐蝕形成的。上下電極的間隙由硅片的腐蝕深度決定。硅膜片和襯底利用鍵合技術(shù)鍵合在一起,形成具有一定穩(wěn)定性的硅膜片電容壓力傳感器[2]。由于鉑電阻耐高溫,且對溫度敏感,選用鉑電阻,既可以當普通電阻使用,又可以作為溫度傳感器用以被測環(huán)境的溫度。金屬鉑電阻和硅膜片的參數(shù)為:0℃時鉑電阻值為1000Ω;電阻率為1.0526316×10-5Ω?cm;密度為21440kg/m3;比熱為132.51J/(kg?K)、熔斷溫度為1769℃,故鉑電阻可加工為寬度為0.02mm;厚度為0.2μm;總長度為3800μm,制作成鋸齒狀,可在幅值為10V的階躍信號下正常工作。電容式壓力傳感器的上下電極的間隙為3μm、圓形平板電容上下電極的半徑為73μm、其電容值為50pF。


進氣壓力傳感器的輸出特性進氣壓力傳感器發(fā)動機工作時,隨著節(jié)氣門開度的變化,進氣歧管內(nèi)的真空度、壓力以及輸出信號特性曲線均在變化。但是它們之間變化的關(guān)系是怎樣的?輸出特性曲線是正的還是負的?這個問題常常不易被人理解,天津壓力傳感器供應(yīng)商,以致有些檢修人員在工作中有一種“吃不準”的感覺。D型噴射系統(tǒng)中檢測的是節(jié)氣門后方的進氣歧管內(nèi)的、壓力。節(jié)氣門的后方既反映了真空度又反映了壓力,因而有人認為真空度與壓力是一個概念,其實這種理解是片面的。在大氣壓力不變的條件下(標準大氣壓力為101.3kPa),歧管內(nèi)的真空度越高,反映歧管內(nèi)的壓力越低,真空度等于大氣壓力減去歧管內(nèi)壓力的差一值。而歧管內(nèi)的壓力越高,說明歧管內(nèi)的真空度越低,歧管內(nèi)壓力等于歧管外的大氣壓力減去真空度的差值。即大氣壓力等于真空度和壓力之和。理解了大氣壓力、真空度、壓力的關(guān)系后,進氣壓力傳感器的輸出特性就明確了。發(fā)動機工作中,節(jié)氣門開度越小,進氣歧管的真空度越大,歧管內(nèi)的壓力就越小,輸出信號電壓也越小。節(jié)氣門開度越大,進氣歧管的真空度越小,天津壓力傳感器,歧管內(nèi)的壓力就越大,輸出信號電壓也越大。輸出信號電壓與歧管內(nèi)真空度的大小成反比(負特性),與歧管內(nèi)壓力的大小成正比(正特性)。


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