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引起鍍膜玻璃膜層不均勻原因多方面


二次污染造成的洗凈的玻璃在鍍膜前需經(jīng)過(guò)加熱,抽真空和濺射等過(guò)程,而使玻璃再次污染,從而使玻璃鍍膜后產(chǎn)生。玻璃加熱過(guò)程中再污染是加熱室或?yàn)R射室不干凈,而對(duì)玻璃再污染,這些污染源主要來(lái)源于擴(kuò)散泵返油、加熱室或?yàn)R射室內(nèi)臟、靶玻璃材濺射產(chǎn)生靶灰,殘余氣體壓強(qiáng)高等諸多方面。因?yàn)橐话愕墓腆w物質(zhì),每單位表面積上的分子數(shù)大約為10個(gè)左右,在常Pa的壓強(qiáng)下,每秒鐘撞表面的分子數(shù)大體上相當(dāng)于覆蓋物質(zhì)積的分子數(shù)。在殘余氣體壓強(qiáng)為10的情況下,假如以每秒一層原子左右的形成速度進(jìn)行鍍膜時(shí),則蒸發(fā)的原子和殘余氣體的分子幾乎是以相同的幾率碰撞基片。在濺射過(guò)程中在充入氣時(shí)壓強(qiáng)為10~10時(shí)所形成膜的速度和蒸發(fā)條件下基本相同。


臥式蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備


該設(shè)備結(jié)構(gòu)合理、膜層均勻、成膜質(zhì)量好、抽速大、工作周期短、生產(chǎn)、操作方便、能耗低性能穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn)。廣泛應(yīng)用于汽車、音響、各類小家電、電腦、鐘表、玩具、手機(jī)、反光環(huán)、化妝品、玩具等行業(yè)。

臥式蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備具有:結(jié)構(gòu)合理、膜層均勻、成膜質(zhì)量好、抽速大、工作周期短、生產(chǎn)、操作方便、能耗低性能穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn)。廣泛應(yīng)用于汽車、音響、各類小家電、電腦、鐘表、玩具、手機(jī)、反光環(huán)、化妝品、玩具等行業(yè)。

鍍制效果有:普通電鍍亮面、啞面(半啞、全?。?、工藝電鍍、拉絲、雨滴、七彩等等。

至成鍍膜機(jī)廠家可以根據(jù)用戶要求設(shè)計(jì)各種規(guī)格型號(hào)的真空鍍膜機(jī)。真空機(jī)組及電控系統(tǒng)也可根據(jù)用戶要求進(jìn)行設(shè)計(jì)配置。


真空鍍膜機(jī)真空的清洗方法,你知道嗎?


真空鍍膜機(jī)真空清洗一般定義為在真空工藝進(jìn)行前,先從工件或系統(tǒng)材料表面所不期望的物質(zhì)的過(guò)程。真空零部件的表面清洗處理是很必要的,因?yàn)橛晌廴疚锼斐傻臍怏w、蒸氣源會(huì)使真空系統(tǒng)不能獲得所要求的真空度。此外,由于污染物的存在,還會(huì)影響真空部件連接處的強(qiáng)度和密封性能。

一.真空加熱清洗

將工件放置于常壓或真空中加熱.促使其表面上的揮發(fā)雜質(zhì)蒸發(fā)來(lái)達(dá)到清洗的目的,這種方法的清洗效果與工件的環(huán)境壓力、在真空中保留時(shí)間的長(zhǎng)短、加熱溫度、污染物的類型及工件材料有關(guān)。其原理是加熱工件.促使其表面吸附的水分子和各種碳?xì)浠衔锓肿拥慕馕饔迷鰪?qiáng)。解吸增強(qiáng)的程度與溫度有關(guān)。在超高真空下,為了得到原子級(jí)清潔表面,加熱溫度必高于450度才行.加熱清洗方法特別有效。但有時(shí),這種處理方法也會(huì)產(chǎn)生副作用。由于加熱的結(jié)果,可能發(fā)生某些碳?xì)浠衔锞酆铣奢^大的團(tuán)粒,并同時(shí)分解成碳渣


二.紫外線輻照清洗

利用紫外輻照來(lái)分解表面上的碳?xì)浠衔?。例如,在空氣中照?5h就可產(chǎn)生清潔的玻璃表面。如果把適當(dāng)預(yù)清洗的表面放在一個(gè)產(chǎn)生臭氧的紫外線源中.要不了幾分鐘就可以形成清潔表面(工藝清潔)。這表明臭氧的存在增加了清潔速率。其清洗機(jī)理是:在紫外線照射下,污物分子受激并離解,而臭氧的生成和存在產(chǎn)生高活性的原子態(tài)氧。受激的污物分子和由污物離解產(chǎn)生的自由基與原子態(tài)氧作用.形成較簡(jiǎn)單易揮發(fā)分子.如H203、CO2和N2.其反應(yīng)速率隨溫度的增加而增加.


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