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真空鍍膜設(shè)備的日常維護(hù)
真空鍍膜設(shè)備的運(yùn)行狀況直接影響生產(chǎn)工藝、產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)進(jìn)程等,為了使設(shè)備的運(yùn)行狀況良好,必須建立和完善設(shè)備的維護(hù)與維修制度、維護(hù)內(nèi)容、維修標(biāo)準(zhǔn)等。
設(shè)備的維護(hù)要有日常維護(hù)和定期維護(hù)
1,日常維護(hù)就是在當(dāng)天生產(chǎn)中發(fā)現(xiàn)設(shè)備有不良跡象,就馬上解決。發(fā)現(xiàn)機(jī)械泵的油少了就要添加,不要認(rèn)為這油是定期更換的,等到了時(shí)間再維護(hù),到時(shí)候可能泵的轉(zhuǎn)子就會(huì)磨損嚴(yán)重了。再比如工件轉(zhuǎn)架的軸承有些卡,就要更換軸承,而等到它的壞了再換,問(wèn)題可就大了,可能引起轉(zhuǎn)架電機(jī)燒毀等現(xiàn)象。
2定期維護(hù),有人會(huì)問(wèn)有了日常維護(hù)還有必要定期維護(hù)嗎?其實(shí)每一種設(shè)備都有自己的使用壽命,比如擴(kuò)散泵用的的硅油,使用壽命為兩年左右,我就規(guī)定1年半把它換掉,這樣作是不是浪費(fèi),我覺(jué)得不浪費(fèi),從設(shè)備服務(wù)于生產(chǎn)來(lái)說(shuō)是值得的,老板不希望看到的是機(jī)器在生產(chǎn)階段出現(xiàn)問(wèn)題。只要你把日常維護(hù)和定期維護(hù)做好了,在延長(zhǎng)設(shè)備壽命的同時(shí),生產(chǎn)過(guò)程中出現(xiàn)故障的幾率也大大降低。生產(chǎn)效率也提高了。
3,設(shè)備保養(yǎng)和維修1重要的是講究“細(xì)心”,每一個(gè)人都力求做到“我辦事,你放心”,也就是說(shuō)我做的事情不需要?jiǎng)e人和自己再有懷疑!做好這一點(diǎn)可少走好多彎路,其次是要善于分析現(xiàn)象,不能盲目的拆卸。說(shuō)到這里,很多人都遇到過(guò)真空方面的漏氣問(wèn)題,真空部分出現(xiàn)了問(wèn)題很麻煩,再加上我們公司沒(méi)有檢漏儀,這就要分階段來(lái)找。
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真空鍍膜設(shè)備真空泵的選擇
正確地組合真空泵。由于真空泵有選擇性抽氣,因而,有時(shí)選用一種泵不能滿(mǎn)足抽氣要求,需要幾種泵組合起來(lái),互相補(bǔ)充才能滿(mǎn)足抽氣要求。另外,有的真空泵不能在大氣壓下工作,需要預(yù)真空;有的真空泵出口壓強(qiáng)低于大氣壓,需要前級(jí)泵,故都需要把泵組合起來(lái)使用。
正確地選擇真空泵的工作點(diǎn)。每種泵都有一定的工作壓強(qiáng)范圍,如:2BV系列水環(huán)真空泵工作壓強(qiáng)范圍760mmHg~25mmHg(絕壓),在這樣寬壓強(qiáng)范圍內(nèi),泵的抽速隨壓強(qiáng)而變化(詳細(xì)變化情況參照泵的性能曲線),其穩(wěn)定的工作壓強(qiáng)范圍為760~60mmHg。因而,泵的工作點(diǎn)應(yīng)該選在這個(gè)范圍之內(nèi)較為適宜,而不能讓它在25~30mmHg下長(zhǎng)期工作。
真空泵排出來(lái)的油蒸氣對(duì)環(huán)境的影響如何。如果環(huán)境不允許有污染,可以選無(wú)油真空泵,或者把油蒸氣排到室外。
真空泵的工作壓強(qiáng)應(yīng)該滿(mǎn)足真空設(shè)備的極限真空及工作壓強(qiáng)要求。如:某真空干燥工藝要求10mmHg的工作真空度,選用的真空泵的極限真空度至少要2mmHg,1好能達(dá)到1mmHg。通常選擇泵的極限真空度要高于真空設(shè)備工作真空度半個(gè)到一個(gè)數(shù)量級(jí)。
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真空鍍膜機(jī)
真空鍍膜機(jī)主要指一類(lèi)需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類(lèi),包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。
需要鍍膜的被稱(chēng)為基片,鍍的材料被稱(chēng)為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)。并且沉降在基片表面,通過(guò)成膜過(guò)程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng))形成薄膜。 對(duì)于濺射類(lèi)鍍膜,可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來(lái),并且終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過(guò)程,終形成薄膜。
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