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掃描電鏡 電子探針顯微分析儀基本原理
電子探針(EPMA):它是在電子光學(xué)和 X 射線光譜學(xué)原理的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一種、綜合分析的儀器。
功能:在觀察微觀形貌的同時,進行微區(qū)成分分析。
原理:是用細聚焦電子束入射樣品表面,激發(fā)出樣品元素的特征 X射線,①分析特征 X 射線的波長(或特征能量),可對樣品中所含元素的種類進行定性分析;②分析 X 射線的強度,則可對應(yīng)元素含量進行定量分析。
構(gòu)造:主機部分與 SEM 相同,天津生物樣品電鏡分析,只增加了檢測X射線的信號的譜儀,用于檢測X射線的特征波長或特征能量。

掃描電鏡成像原理及信號及應(yīng)用
(1)表面形貌襯度原理:利用二次電子特性進行成像,二次電子數(shù)量和原子序數(shù)無明顯的關(guān)系,但對微區(qū)表面的幾何形狀十分敏感。
被入射電子束激發(fā)出的二次電子數(shù)量和原子序數(shù)沒有明顯的關(guān)系,但是二次電子對微區(qū)表面的幾何形狀十分敏感。上圖說明了樣品表面和電子束相對位置與二次電子產(chǎn)額之間的關(guān)系。入射束與樣品表面法線相平行時,即圖中a),二次電子的產(chǎn)額少。若樣品傾斜了45度,則電子束穿入樣品激發(fā)二次電子的有效深度增加了1.414倍,入射電子激發(fā)表面的二次電子數(shù)量增多(黑域)。同理,樣品傾斜了60度,則有效深度增加了2倍,產(chǎn)生的二次電子數(shù)量進一步增加。

掃描電鏡的介紹 EPMA和SEM都是用聚焦得很細的電子束照射被檢測的試樣表面,用X 射線能譜儀或波譜儀,測量電子與試樣相互作用所產(chǎn)生的特征X 射線的波長與強度, 從而對微小區(qū)域所含元素進行定性或定量分析,并可以用二次電子或背散射電子等信息進行形貌觀察?! PMA和SEM是現(xiàn)代固體材料顯微分析(微區(qū)成份、 形貌和結(jié)構(gòu)分析)的有用儀器,應(yīng)用十分廣泛。電子探針和掃描電鏡都是用計算機控制分析過程和進行數(shù)據(jù)處理,并可進行彩像處理和圖像分析工作,所以是一種現(xiàn)代化的大型綜合分析儀。據(jù)2003 年不完全統(tǒng)計,國內(nèi)各種型號的電子探針和掃描電鏡超過2000 臺,分布在各個領(lǐng)域。


注冊資金:100.000000萬元
聯(lián)系人:朱老師
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