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如何選擇真空鍍膜設備供應商
真空檢測系統(tǒng),目前基本都是用復合真空計,熱偶規(guī)+電離規(guī)的組合,這個組合在遇到充入大量含有C元素的氣體的工藝,電離規(guī)很容易毒化,造成電離規(guī)損壞,如果鍍制含有大量C元素的氣體的工藝,可以考慮,配置電容薄膜規(guī)。
真空電源,國產電源和進口電源的差距還是比較明顯,當然價格也比較優(yōu)惠,一臺國產的20KW中頻電源在8萬左右,一臺進口的中頻電源在20萬,進口電源的性能和可靠性,穩(wěn)定性會更好,國產電源由于產地就在國內,可能在服務上要好于進口電源。

CT系列鍍膜機
CT(Cusued workstation)系列鍍膜機系我司非標定制產品,根據您的要求單獨設計,滿足您的特殊需要。
特點:1、按需開發(fā),量身定制。
2、整機采用柜式結構,密封性能好,防塵防水,。
3、磁控、熱蒸發(fā)多種鍍膜方式可選
4、可集成手套箱系統(tǒng)
5、可集成多種自動化應用
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薄膜均勻性概念
1.厚度上的均勻性,也可以理解為粗糙度,在光學薄膜的尺度上看(也就是1/10波長作為單位,約為100A),真空鍍膜的均勻性已經相當好,可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內,也就是說對于薄膜的光學特性來說,真空鍍膜沒有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度,也就是說要實現10A甚至1A的表面平整,具體控制因素下面會根據不同鍍膜給出詳細解釋。
2.化學組分上的均勻性: 就是說在薄膜中,化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產生不均勻特性,真空鍍膜系統(tǒng)價格,SiTiO3薄膜,如果鍍膜過程不科學,那么實際表面的組分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,鍍的膜并非是想要的膜的化學成分,這也是真空鍍膜的技術含量所在。 具體因素也在下面給出。
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